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講演抄録/キーワード
講演名
2011-05-13 15:00
酸化亜鉛薄膜トランジスタ(ZnO TFT)のバイアスストレス劣化メカニズム
○
古田 守
・
平松孝浩
・
松田時宜
・
平尾 孝
(
高知工科大
)・
鎌田雄大
・
藤田静雄
(
京大
)
R2011-11
抄録
(和)
(まだ登録されていません)
(英)
(Not available yet)
キーワード
(和)
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(英)
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文献情報
信学技報, vol. 111, no. 33, R2011-11, pp. 19-22, 2011年5月.
資料番号
R2011-11
発行日
2011-05-06 (R)
ISSN
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード
R2011-11
研究会情報
研究会
R
開催期間
2011-05-13 - 2011-05-13
開催地(和)
高知市文化プラザ「かるぽーと」
開催地(英)
Kochi City Culture-Plaza Cul-Port
テーマ(和)
LSIを含む電子デバイスの評価・解析・診断,および信頼性一般
テーマ(英)
講演論文情報の詳細
申込み研究会
R
会議コード
2011-05-R
本文の言語
日本語
タイトル(和)
酸化亜鉛薄膜トランジスタ(ZnO TFT)のバイアスストレス劣化メカニズム
サブタイトル(和)
タイトル(英)
Bias-Temperature Instability in Zin Oxide Thin-Film Transistors
サブタイトル(英)
キーワード(1)(和/英)
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キーワード(2)(和/英)
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キーワード(3)(和/英)
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キーワード(4)(和/英)
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キーワード(5)(和/英)
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キーワード(6)(和/英)
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キーワード(7)(和/英)
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キーワード(8)(和/英)
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ)
古田 守
/
Mamoru Furuta
/
フルタ マモル
第1著者 所属(和/英)
高知工科大学
(略称:
高知工科大
)
Kochi University of Technology
(略称:
Kochi Univ. of Tech.
)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ)
平松 孝浩
/
Takahiro Hiramatsu
/
ヒラマツ タカヒロ
第2著者 所属(和/英)
高知工科大学
(略称:
高知工科大
)
Kochi University of Technology
(略称:
Kochi Univ. of Tech.
)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ)
松田 時宜
/
Tokiyoshi Matsuda
/
マツダ トキヨシ
第3著者 所属(和/英)
高知工科大学
(略称:
高知工科大
)
Kochi University of Technology
(略称:
Kochi Univ. of Tech.
)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ)
平尾 孝
/
Takashi Hirao
/
ヒラオ タカシ
第4著者 所属(和/英)
高知工科大学
(略称:
高知工科大
)
Kochi University of Technology
(略称:
Kochi Univ. of Tech.
)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ)
鎌田 雄大
/
Yudai Kamada
/
カマダ ユウダイ
第5著者 所属(和/英)
京都大学
(略称:
京大
)
Kyoto University
(略称:
Kyoto Univ.
)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ)
藤田 静雄
/
Shizuo Fujita
/
フジタ シズオ
第6著者 所属(和/英)
京都大学
(略称:
京大
)
Kyoto University
(略称:
Kyoto Univ.
)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第7著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第8著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第8著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第9著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第9著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第10著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第11著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第12著者 所属(和/英)
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(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第13著者 所属(和/英)
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(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第14著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第15著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第16著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第17著者 所属(和/英)
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第18著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第18著者 所属(和/英)
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第19著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第19著者 所属(和/英)
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(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第20著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
講演者
第1著者
発表日時
2011-05-13 15:00:00
発表時間
25分
申込先研究会
R
資料番号
R2011-11
巻番号(vol)
vol.111
号番号(no)
no.33
ページ範囲
pp.19-22
ページ数
4
発行日
2011-05-06 (R)
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