講演抄録/キーワード |
講演名 |
2011-04-22 15:50
超高Δ石英系導波路に於ける紫外光誘起屈折率変化 ○阿部 淳・伊東雅之・小湊俊海・那須悠介・井藤幹隆(NTT) R2011-7 CPM2011-7 OPE2011-7 エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2011-7 OPE2011-7 |
抄録 |
(和) |
超高Δ石英系光回路を構成する導波路として有望とされるTa2O5添加石英系導波路,並びにSiON導波路に関して,ArFエキシマレ-ザ-光を照射し,誘起される屈折率変化,及び損失変化に関する特性をアレイ導波路波長合分波器(AWG)を用いて評価した.又,誘起屈折率変化,誘起損失の熱緩和特性を評価し,光回路における光路長調整応用に関して検討した.
Ta2O5導波路では,大きな光誘起損失ΔILが観られたが,誘起屈折率変化ΔnとΔILに熱緩和の差異があることを明らかにし,光路長調整応用手法確立に向けた端緒とした.7.7%-Δ SiON導波路では,Δn=2.4x10-3と光路長調整応用に十分寄与し得る感度を有することを明らかにした. |
(英) |
We demonstrate the photosensitivity of an extremely high index contrast Ta2O5-doped silica and SiON waveguide using an arrayed-waveguide grating multi/demultiplexer. We investigated the UV induced refractive index change and insertion loss increase. We also investigated their thermal relaxation. We observed large increase of the insertion loss due to UV irradiation and found the difference of thermal relaxation in the UV induced n and IL. We also demonstrated large photosensitivity in 7.7%-D SiON waveguide, whitch was up to 2.4 x 10-3 and enough large for optical path trimming applications. |
キーワード |
(和) |
石英 / 導波路 / 光回路 / 紫外光 / / / / |
(英) |
photosensitivity / silica / PLC / waveguide / / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 111, no. 16, OPE2011-7, pp. 27-31, 2011年4月. |
資料番号 |
OPE2011-7 |
発行日 |
2011-04-15 (R, CPM, OPE) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
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