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講演抄録/キーワード
講演名 2011-04-18 10:00
[招待講演]スピン注入RAM(SPRAM)の動向および多値化技術
石垣隆士河原尊之竹村理一郎小埜和夫伊藤顕知日立)・大野英男東北大ICD2011-1 エレソ技報アーカイブへのリンク:ICD2011-1
抄録 (和) 本稿では、スピン注入型磁性体メモリの最新動向と多値スピン注入RAM(MLC-SPRAM)について述べる。2つの直列接続した磁気トンネル接合を用いてメモリセルを構成することで、その磁化反転による抵抗変化の組み合わせにより4レベルの抵抗値、すなわち2bit/cellを実現した。多値化のための必要条件は、2つのSPRAM素子が互いに平面面積のみ異なっていればよい。書き換え・読み出し動作としては、2段階のシーケンスを用いる方式を考案した。また、セルサイズ設計の一例を述べ、4F2/bitが見込めることを示した。 
(英) A MLC (Multi-level cell) SPRAM (Spin transfer torque RAM) with series-stacked MTJs (Magnetic tunnel junctions) was developed. We demonstrate the successful four-level operation, which means two-bits/cell. It is shown that areas of the two-MTJs are required to be different. In addition, two-step write and read techniques for memory operation are also proposed. Moreover, the design of the cell size is discussed.
キーワード (和) SPRAM / STT / スピン注入磁化反転 / トンネル磁気抵抗 / 磁気トンネル接合 / 多値 / /  
(英) SPRAM / STT / TMR / MTJ / MLC / / /  
文献情報 信学技報, vol. 111, no. 6, ICD2011-1, pp. 1-5, 2011年4月.
資料番号 ICD2011-1 
発行日 2011-04-11 (ICD) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード ICD2011-1 エレソ技報アーカイブへのリンク:ICD2011-1

研究会情報
研究会 ICD  
開催期間 2011-04-18 - 2011-04-19 
開催地(和) 神戸大学 瀧川記念館 
開催地(英) Kobe University Takigawa Memorial Hall 
テーマ(和) メモリ(DRAM、SRAM、フラッシュ、新規メモリ)技術 
テーマ(英) Memory Device Technologies 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 ICD 
会議コード 2011-04-ICD 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) スピン注入RAM(SPRAM)の動向および多値化技術 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Trends and Multi-level-cell Technology of Spin Transfer Torque Memory 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) SPRAM / SPRAM  
キーワード(2)(和/英) STT / STT  
キーワード(3)(和/英) スピン注入磁化反転 / TMR  
キーワード(4)(和/英) トンネル磁気抵抗 / MTJ  
キーワード(5)(和/英) 磁気トンネル接合 / MLC  
キーワード(6)(和/英) 多値 /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 石垣 隆士 / Takashi Ishigaki / イシガキ タカシ
第1著者 所属(和/英) 日立製作所 中央研究所 (略称: 日立)
Central Research Laboratory, Hitachi. Ltd. (略称: Hitachi)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 河原 尊之 / Takayuki Kawahara / カワハラ タカユキ
第2著者 所属(和/英) 日立製作所 中央研究所 (略称: 日立)
Central Research Laboratory, Hitachi. Ltd. (略称: Hitachi)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 竹村 理一郎 / Riichiro Takemura / タケムラ リイチロウ
第3著者 所属(和/英) 日立製作所 中央研究所 (略称: 日立)
Central Research Laboratory, Hitachi. Ltd. (略称: Hitachi)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 小埜 和夫 / Kazuo Ono / オノ カズオ
第4著者 所属(和/英) 日立製作所 中央研究所 (略称: 日立)
Central Research Laboratory, Hitachi. Ltd. (略称: Hitachi)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 伊藤 顕知 / Kenchi Ito / イトウ ケンチ
第5著者 所属(和/英) 日立製作所 基礎研究所 (略称: 日立)
Advanced Research Laboratory, Hitachi. Ltd. (略称: Hitachi)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 大野 英男 / Hideo Ohno / オオノ ヒデオ
第6著者 所属(和/英) 東北大学 電気通信研究所 東北大省エネルギー・スピントロニクス集積化システムセンター (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku U.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2011-04-18 10:00:00 
発表時間 50分 
申込先研究会 ICD 
資料番号 ICD2011-1 
巻番号(vol) vol.111 
号番号(no) no.6 
ページ範囲 pp.1-5 
ページ数
発行日 2011-04-11 (ICD) 


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