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講演抄録/キーワード
講演名 2011-03-28 10:00
半導体製造データ分析への無限隠れMarkov確率場モデルの応用
新垣隆生植野 研榊原 静東芝IBISML2010-104
抄録 (和) (事前公開アブストラクト) 半導体の製造プロセスは非常に時間とコストのかかるプロセスであり,検査コストの削減が望まれる.本報告では,Chatzis and Tsechpenakis (2010) で提案されている無限隠れMarkov確率場モデルに基づいて,ウェハ上の限られた位置のチップ検査データから空間的な従属性を捉え,それ以外の位置に対する結果を推定する方法について述べる. 
(英) (Advance abstract in Japanese is available)
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文献情報 信学技報, vol. 110, no. 476, IBISML2010-104, pp. 1-7, 2011年3月.
資料番号 IBISML2010-104 
発行日 2011-03-21 (IBISML) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード IBISML2010-104

研究会情報
研究会 IBISML  
開催期間 2011-03-28 - 2011-03-29 
開催地(和) 阪大中之島センター 
開催地(英) Nakanoshima Center, Osaka Univ. 
テーマ(和) テキスト・Webマイニング、一般 
テーマ(英) Text and Web mining, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 IBISML 
会議コード 2011-03-IBISML 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 半導体製造データ分析への無限隠れMarkov確率場モデルの応用 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Infinite Hidden Markov Random Field Model and Its Application to Semiconductor Manufacturing Data 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 新垣 隆生 / Ryusei Shingaki / シンガキ リュウセイ
第1著者 所属(和/英) 東芝 (略称: 東芝)
Toshiba Corporation (略称: Toshiba Corp.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 植野 研 / Ken Ueno / ウエノ ケン
第2著者 所属(和/英) 東芝 (略称: 東芝)
Toshiba Corporation (略称: Toshiba Corp.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 榊原 静 / Shizu Sakakibara / サカキバラ シズ
第3著者 所属(和/英) 東芝 (略称: 東芝)
Toshiba Corporation (略称: Toshiba Corp.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2011-03-28 10:00:00 
発表時間 20分 
申込先研究会 IBISML 
資料番号 IBISML2010-104 
巻番号(vol) vol.110 
号番号(no) no.476 
ページ範囲 pp.1-7 
ページ数
発行日 2011-03-21 (IBISML) 


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