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講演抄録/キーワード
講演名 2011-02-14 13:45
高精度遅延テストのためのテストパターン生成法
堀 慧悟奈良先端大)・米田友和井上美智子藤原秀雄奈良先端大/JSTDC2010-64
抄録 (和) 本研究では,システムクロックより速い複数のテストクロックを用いて,微小遅延を検出するテスト手法を提案する.半導体の製造プロセスの微細化に伴いNBTI,TDDB等の劣化が製品の信頼性に関わる重大な問題となっている.これらの劣化メカニズムは,微小な遅延値の増加を引き起こすため,微小な遅延値の増加の検出によりシステム障害を予測することが可能である.本稿では,微小遅延欠陥検出能力に関し2つの評価指標を考え,それぞれに対して,微小遅延欠陥検出能力の高いテストパターン集合の生成法を提案する.ベンチマーク回路を用いた実験では,提案法の微小遅延検出能力を評価する. 
(英) We propose a new faster-than-at-speed test method to detect small delay defects. As semiconductor technology is scaling down, transistor aging such as NBTI and TDDB becomes major concern on field reliability. Since these aging mechanisms manifest as gradual delay increase, it is possible to predict system failure by detecting small delay increase. In this paper, we consider two criterions on capability of small delay defect detection, and propose two test pattern generation method for both criterions, respectively. Experimental results demonstrate the effectiveness of the proposed method.
キーワード (和) 遅延テスト / テスト応答マスク / 微小遅延欠陥 / 劣化 / フィールドテスト / / /  
(英) Delay Test / Test Response Masking / Small Delay Defect / Aging / Field test / / /  
文献情報 信学技報, vol. 110, no. 413, DC2010-64, pp. 33-38, 2011年2月.
資料番号 DC2010-64 
発行日 2011-02-07 (DC) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード DC2010-64

研究会情報
研究会 DC  
開催期間 2011-02-14 - 2011-02-14 
開催地(和) 機械振興会館 
開催地(英) Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. 
テーマ(和) VLSI設計とテストおよび一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 DC 
会議コード 2011-02-DC 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 高精度遅延テストのためのテストパターン生成法 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Test Pattern Generation for Highly Accurate Delay Testing 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 遅延テスト / Delay Test  
キーワード(2)(和/英) テスト応答マスク / Test Response Masking  
キーワード(3)(和/英) 微小遅延欠陥 / Small Delay Defect  
キーワード(4)(和/英) 劣化 / Aging  
キーワード(5)(和/英) フィールドテスト / Field test  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 堀 慧悟 / Keigo Hori / ホリ ケイゴ
第1著者 所属(和/英) 奈良先端科学技術大学院大学 (略称: 奈良先端大)
Nara Institute of Science and Technology (略称: NAIST)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 米田 友和 / Tomokazu Yoneda / ヨネダ トモカズ
第2著者 所属(和/英) 奈良先端科学技術大学院大学/科学技術振興機構 (略称: 奈良先端大/JST)
Nara Institute of Science and Technology/Japan Science and Technology Agench, CREST (略称: NAIST/JST)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 井上 美智子 / Michiko Inoue / イノウエ ミチコ
第3著者 所属(和/英) 奈良先端科学技術大学院大学/科学技術振興機構 (略称: 奈良先端大/JST)
Nara Institute of Science and Technology/Japan Science and Technology Agench, CREST (略称: NAIST/JST)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 藤原 秀雄 / Hideo Fujiwara / フジワラ ヒデオ
第4著者 所属(和/英) 奈良先端科学技術大学院大学/科学技術振興機構 (略称: 奈良先端大/JST)
Nara Institute of Science and Technology/Japan Science and Technology Agench, CREST (略称: NAIST/JST)
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講演者 第1著者 
発表日時 2011-02-14 13:45:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 DC 
資料番号 DC2010-64 
巻番号(vol) vol.110 
号番号(no) no.413 
ページ範囲 pp.33-38 
ページ数
発行日 2011-02-07 (DC) 


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