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講演抄録/キーワード
講演名
2011-01-28 14:40
ミストデポジション法による酸化マグネシウム(MgO)薄膜作製 ~ 大気圧下、低温成長への挑戦 ~
○
川原村敏幸
(
高知工科大
)・
織田容征
・
白幡孝洋
(
東芝三菱電機産業システム
)・
井川拓人
・
伊藤大師
(
京大
)・
吉田章男
(
東芝三菱電機産業システム
)・
藤田静雄
(
京大
)・
平尾 孝
(
高知工科大
)
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抄録
(和)
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(英)
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キーワード
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文献情報
信学技報
資料番号
発行日
ISSN
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研究会情報
研究会
EID ITE-IDY IEE-EDD IEIJ-SSL
開催期間
2011-01-28 - 2011-01-29
開催地(和)
高知工科大学 研究教育棟B
開催地(英)
Kochi University of Technology
テーマ(和)
発光型/非発光型ディスプレイ
テーマ(英)
Display technology, etc
講演論文情報の詳細
申込み研究会
ITE-IDY
会議コード
2011-01-IDY-EID-EDD-OMD-JC
本文の言語
日本語
タイトル(和)
ミストデポジション法による酸化マグネシウム(MgO)薄膜作製
サブタイトル(和)
大気圧下、低温成長への挑戦
タイトル(英)
Growth of Magnesium Oxide (MgO) Thin Film with Mist Deposition.
サブタイトル(英)
Challenge to low temperature growth under the atmospheric pressure
キーワード(1)(和/英)
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キーワード(2)(和/英)
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キーワード(3)(和/英)
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キーワード(4)(和/英)
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キーワード(5)(和/英)
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キーワード(6)(和/英)
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キーワード(7)(和/英)
/
キーワード(8)(和/英)
/
第1著者 氏名(和/英/ヨミ)
川原村 敏幸
/
Toshiyuki Kawaharamura
/
第1著者 所属(和/英)
高知工科大学
(略称:
高知工科大
)
Research Institute for Nanodevices, Kochi University of Technology
(略称:
Kochi Univ. Tech.
)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ)
織田 容征
/
Hiroyuki Orita
/
オリタ ヒロユキ
第2著者 所属(和/英)
東芝三菱電機産業システム株式会社
(略称:
東芝三菱電機産業システム
)
TOSHIBA MITSUBISHI-ELECTRIC INDUSTRIAL SYSTEMS CORPORATION
(略称:
TMEIC
)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ)
白幡 孝洋
/
Takahiro Shirahata
/
シラハタ タカヒロ
第3著者 所属(和/英)
東芝三菱電機産業システム株式会社
(略称:
東芝三菱電機産業システム
)
TOSHIBA MITSUBISHI-ELECTRIC INDUSTRIAL SYSTEMS CORPORATION
(略称:
TMEIC
)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ)
井川 拓人
/
Takuto Igawa
/
イガワ タクト
第4著者 所属(和/英)
京都大学大学院工学研究科
(略称:
京大
)
Department of Electronic Engineering and Science, Kyoto University
(略称:
Kyoto Univ.
)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ)
伊藤 大師
/
Hiroshi Ito
/
イトウ ヒロシ
第5著者 所属(和/英)
京都大学大学院工学研究科
(略称:
京大
)
Department of Electronic Engineering and Science, Kyoto University
(略称:
Kyoto Univ.
)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ)
吉田 章男
/
Akio Yoshida
/
ヨシダ アキオ
第6著者 所属(和/英)
東芝三菱電機産業システム株式会社
(略称:
東芝三菱電機産業システム
)
TOSHIBA MITSUBISHI-ELECTRIC INDUSTRIAL SYSTEMS CORPORATION
(略称:
TMEIC
)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ)
藤田 静雄
/
Shizuo Fujita
/
フジタ シズオ
第7著者 所属(和/英)
京都大学大学院工学研究科
(略称:
京大
)
Department of Electronic Engineering and Science, Kyoto University
(略称:
Kyoto Univ.
)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ)
平尾 孝
/
Takashi Hirao
/
ヒラオ タカシ
第8著者 所属(和/英)
高知工科大学
(略称:
高知工科大
)
Research Institute for Nanodevices, Kochi University of Technology
(略称:
Kochi Univ. Tech.
)
第9著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第9著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第10著者 所属(和/英)
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(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第11著者 所属(和/英)
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第12著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第12著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第13著者 所属(和/英)
(略称: )
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第14著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第14著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第15著者 所属(和/英)
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(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第16著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第17著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第18著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第19著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第19著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第20著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
講演者
第1著者
発表日時
2011-01-28 14:40:00
発表時間
5分
申込先研究会
ITE-IDY
資料番号
巻番号(vol)
vol.110
号番号(no)
ページ範囲
ページ数
発行日
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