講演抄録/キーワード |
講演名 |
2010-12-17 15:35
PLD法によるSi基板上へのErxY2-XSiO5結晶薄膜作製 ○岩谷賢治・一色秀夫(電通大) OPE2010-137 エレソ技報アーカイブへのリンク:OPE2010-137 |
抄録 |
(和) |
パルス・レーザー堆積(PLD)法をもちいてErxY2-xSiO5結晶の作製を行った。結晶構造、PL微細構造は組成によらず、またErをYに置換することでEr3+- Er3+間のエネルギー移動を抑え、PL発光効率の上昇が確認された。またErxY2-XSiO5層状結晶における配列制御することでPL発光効率の増加が確認された。このときEr原子がSi近傍に存在する方が高効率化に有効であることがわかった。 |
(英) |
ErxY2-xSiO5 crystalline thin films were fabricated by using pulsed laser deposition (PLD). It is found that the crystalline structure and the PL fine structure are independent of Er content. Also PL emission efficiency was improved by suppression of energy transfer between neighboring Er ions due to the exchange Er and Y. Moreover the control of layered atomic arrangement is effective to the improvement of PL efficiency, and it is found that Er neighboring with Si is effective to the high PL efficiency. |
キーワード |
(和) |
シリコンフォトニクス / PLD / ErYSiO / / / / / |
(英) |
Silicon photonics / Pulsed laser deposition / Er / silicate / / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 110, no. 352, OPE2010-137, pp. 31-35, 2010年12月. |
資料番号 |
OPE2010-137 |
発行日 |
2010-12-10 (OPE) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
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