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講演抄録/キーワード
講演名 2010-11-29 14:10
発見的手法に基づくスケーラブルなインクリメンタル高位合成
小野翔平東大)・吉田浩章藤田昌宏東大/JSTVLD2010-59 DC2010-26
抄録 (和) 近年のVLSIの大規模化・複雑化に伴い、高い抽象度で設計を記述することで
高い設計生産性を実現可能な高位合成手法の導入が進んでいる。
一方で設計の複雑化に進むにつれて、設計の後段階における設計やり直しに
よる開発期間の増加の問題がよりいっそう顕著になってきている。
本稿では、高位記述の変更部分に対応する部分だけをインクリメンタルに
高位合成する発見的手法を提案する。例題を用いた計算機実験では、
インクリメンタル手法を用いなかった場合に比べて変更量が約7.5%となり、
提案手法が有効である事を示した。厳密なインクリメンタル手法との比較では、
変更量の増加は平均で4%程度であり、また提案手法は大規模な例題に
対しても適用可能である事を示した。 
(英) Recently, high-level synthesis techniques have been widely used to achieve
high design productivity by enabling a design description at higher
level of abstraction.
In this paper, we propose a scalable heuristic for incremental
high-level synthesis. Experimental results using benchmark designs
show that the average amount of the design changes by the proposed method
is 7.5% compared to a non-incremental high-level synthesis.
Also, we present the comparisons between the exact method and the proposed
heuristic and show that the proposed heuristic can generate near-optimal
results.
キーワード (和) インクリメンタル高位合成 / Engineering Change Order (ECO) / / / / / /  
(英) incremental high-level synthesis / Engineering Change Order (ECO) / / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 110, no. 316, VLD2010-59, pp. 13-18, 2010年11月.
資料番号 VLD2010-59 
発行日 2010-11-22 (VLD, DC) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード VLD2010-59 DC2010-26

研究会情報
研究会 VLD DC IPSJ-SLDM CPSY RECONF ICD CPM  
開催期間 2010-11-29 - 2010-12-01 
開催地(和) 九州大学医学部百年講堂 
開催地(英) Kyushu University 
テーマ(和) デザインガイア2010 ―VLSI設計の新しい大地― 
テーマ(英) Design Gaia 2010 ―New Field of VLSI Design― 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 VLD 
会議コード 2010-11-VLD-DC-SLDM-CPSY-RECONF-ICD-CPM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 発見的手法に基づくスケーラブルなインクリメンタル高位合成 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) A Scalable Heuristic for Incremental High-Level Synthesis 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) インクリメンタル高位合成 / incremental high-level synthesis  
キーワード(2)(和/英) Engineering Change Order (ECO) / Engineering Change Order (ECO)  
キーワード(3)(和/英) /  
キーワード(4)(和/英) /  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 小野 翔平 / Shohei Ono / オノ ショウヘイ
第1著者 所属(和/英) 東京大学 (略称: 東大)
University of Tokyo (略称: Univ. Tokyo)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 吉田 浩章 / Hiroaki Yoshida / ヨシダ ヒロアキ
第2著者 所属(和/英) 東京大学/科学技術振興機構 (略称: 東大/JST)
University of Tokyo/CREST, Japan Science and Technology Agency (略称: Univ. of Tokyo/JST)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 藤田 昌宏 / Masahiro Fujita / フジタ マサヒロ
第3著者 所属(和/英) 東京大学/科学技術振興機構 (略称: 東大/JST)
University of Tokyo/CREST, Japan Science and Technology Agency (略称: Univ. of Tokyo/JST)
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講演者 第1著者 
発表日時 2010-11-29 14:10:00 
発表時間 20分 
申込先研究会 VLD 
資料番号 VLD2010-59, DC2010-26 
巻番号(vol) vol.110 
号番号(no) no.316(VLD), no.317(DC) 
ページ範囲 pp.13-18 
ページ数
発行日 2010-11-22 (VLD, DC) 


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