講演抄録/キーワード |
講演名 |
2010-11-11 13:25
減圧HVPE法による周期溝加工AlN/サファイア上へのELO-AlN ○藤田浩平・三宅秀人・平松和政(三重大)・乗松 潤・平山秀樹(理研) ED2010-147 CPM2010-113 LQE2010-103 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2010-147 CPM2010-113 LQE2010-103 |
抄録 |
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キーワード |
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文献情報 |
信学技報, vol. 110, no. 273, LQE2010-103, pp. 25-28, 2010年11月. |
資料番号 |
LQE2010-103 |
発行日 |
2010-11-04 (ED, CPM, LQE) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
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研究会情報 |
研究会 |
CPM LQE ED |
開催期間 |
2010-11-11 - 2010-11-12 |
開催地(和) |
阪大 中ノ島センター |
開催地(英) |
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テーマ(和) |
窒化物および混晶半導体デバイス |
テーマ(英) |
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講演論文情報の詳細 |
申込み研究会 |
LQE |
会議コード |
2010-11-CPM-LQE-ED |
本文の言語 |
日本語 |
タイトル(和) |
減圧HVPE法による周期溝加工AlN/サファイア上へのELO-AlN |
サブタイトル(和) |
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タイトル(英) |
ELO-AlN on trench-patterned AlN/sapphire by low-pressure HVPE |
サブタイトル(英) |
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
藤田 浩平 / Kohei Fujita / フジタ コウヘイ |
第1著者 所属(和/英) |
三重大学 (略称: 三重大)
Mie University (略称: Mie Univ.) |
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
三宅 秀人 / Hideto Miyake / ミヤケ ヒデト |
第2著者 所属(和/英) |
三重大学 (略称: 三重大)
Mie University (略称: Mie Univ.) |
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
平松 和政 / Kazumasa Hiramatsu / ヒラマツ カズマサ |
第3著者 所属(和/英) |
三重大学 (略称: 三重大)
Mie University (略称: Mie Univ.) |
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
乗松 潤 / Jyun Norimatsu / ノリマツ ジュン |
第4著者 所属(和/英) |
理研 (略称: 理研)
Riken (略称: Riken) |
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
平山 秀樹 / Hideki Hirayama / ヒラヤマ ヒデキ |
第5著者 所属(和/英) |
理研 (略称: 理研)
Riken (略称: Riken) |
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第10著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第12著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第13著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第14著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第15著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第19著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第20著者 所属(和/英) |
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講演者 |
第1著者 |
発表日時 |
2010-11-11 13:25:00 |
発表時間 |
25分 |
申込先研究会 |
LQE |
資料番号 |
ED2010-147, CPM2010-113, LQE2010-103 |
巻番号(vol) |
vol.110 |
号番号(no) |
no.271(ED), no.272(CPM), no.273(LQE) |
ページ範囲 |
pp.25-28 |
ページ数 |
4 |
発行日 |
2010-11-04 (ED, CPM, LQE) |