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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2010-11-11 10:55 ［招待講演］ばらつき・信頼性シミュレーション技術の最新動向 ～ SISPAD2010併設ワークショップ1のレビュー ～ ○鳥山周一（東芝）  SDM2010-172 エレソ技報アーカイブへのリンク：SDM2010-172 |
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| 抄録 | （和） | 2010年9月、イタリアボローニャで開催されたSISPAD2010において併設されたワークショップ“Simulation and Characterization of Statistical CMOS Variability and Reliability”から、報告者が行った不純物ゆらぎシミュレーションの話題を中心に、ばらつき・信頼性シミュレーション技術の最新動向の概略を紹介する。 |
| （英） | A workshop entitled "Simulation and Characterization of Statistical CMOS Variability and Reliability" was held on September 9, 2010 in Bologna, Italy, as a part of SISPAD2010. A brief summary of the workshop is reported, focusing on our presented simulation methods for random dopant fluctuations. | |
| キーワード | （和） | SISPAD / ワークショップ / ばらつき / 信頼性 / / / / |
| （英） | SISPAD / Workshop / Variability / Reliability / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 110, no. 274, SDM2010-172, pp. 5-10, 2010年11月. | |
| 資料番号 | SDM2010-172 | |
| 発行日 | 2010-11-04 (SDM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | SDM2010-172 エレソ技報アーカイブへのリンク：SDM2010-172 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
| 開催期間 | 2010-11-11 - 2010-11-12 |
| 開催地（和） | 機械振興会館 |
| 開催地（英） | Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. |
| テーマ（和） | プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般 |
| テーマ（英） | Process, Device, Circuit Simulations, etc |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | SDM |
| 会議コード | 2010-11-SDM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | ばらつき・信頼性シミュレーション技術の最新動向 |
| サブタイトル（和） | SISPAD2010併設ワークショップ1のレビュー |
| タイトル（英） | Latest Trends in Simulation and Characterization of Statistical CMOS Variability and Reliability |
| サブタイトル（英） | Review of 2010 SISPAD Workshop1 |
| キーワード(1)（和/英） | SISPAD / SISPAD |
| キーワード(2)（和/英） | ワークショップ / Workshop |
| キーワード(3)（和/英） | ばらつき / Variability |
| キーワード(4)（和/英） | 信頼性 / Reliability |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 鳥山 周一 / Shuichi Toriyama / トリヤマ シュウイチ |
| 第1著者 所属（和/英） | 東芝研究開発センター LSI基盤技術ラボラトリー (略称： 東芝) Advanced LSI Technology Laboratory, Toshiba Corporation (略称： Toshiba Corp.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
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| 第18著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2010-11-11 10:55:00 |
| 発表時間 | 50分 |
| 申込先研究会 | SDM |
| 資料番号 | SDM2010-172 |
| 巻番号（vol） | vol.110 |
| 号番号（no） | no.274 |
| ページ範囲 | pp.5-10 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2010-11-04 (SDM) |
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