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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2010-10-29 11:50 スパッタ法を用いた有機EL素子用低温堆積ITO薄膜の検討 ○中村陽平・劉 暢・清水英彦・岩野春男・福嶋康夫・永田向太郎（新潟大）・星 陽一（東京工芸大）  CPM2010-105 エレソ技報アーカイブへのリンク：CPM2010-105 |
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| 抄録 | （和） | 本研究では，低温成膜したITO薄膜のデバイス応用への有効性を検討するため，アンバランスドマグネトロンスパッタ法に基板バイアススパッタ法を組み合わせた方法によるITO膜の低温形成及び作製されたITO薄膜を有機EL素子へ適用し検討を行った。その結果，基板バイアス電圧を低くするにつれITO膜の結晶化は促進された。しかし，抵抗率には大きな変化が見られなかった。また，有機EL素子へ応用した場合，電圧－電流密度特性，電圧－輝度特性ともにとても悪く，有機EL素子用透明電極としては不十分であった。 |
| （英） | In order to examine problems of the ITO films deposited at the low-temperature, the ITO films was deposited at the low-temperature by combined unbalanced magnetron sputtering method and substrate bias sputtering method. The ITO films deposited at the low-temperature were applied to the organic light emitting diode (OLED). As a result, The crystallinity of the ITO films improved as substrate bias voltage decreases. But, The resistivity of the ITO films did not improve as substrate bias voltage decreases. The characteristic of the voltage-current density and the voltage-luminescence of OLEDs with ITO films deposited at the low-temperature were not good. Therefore, the ITO films prepared in this study were insufficient for the electrode of the OLEDs. | |
| キーワード | （和） | 有機EL素子 / ITO薄膜 / 低温度 / アンバランスドマグネトロンスパッタ法 / / / / |
| （英） | OLEDs / ITO thin film / low temperature / Unbalanced magnetron sputtering method / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 110, no. 261, CPM2010-105, pp. 71-75, 2010年10月. | |
| 資料番号 | CPM2010-105 | |
| 発行日 | 2010-10-21 (CPM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | CPM2010-105 エレソ技報アーカイブへのリンク：CPM2010-105 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
| 開催期間 | 2010-10-28 - 2010-10-29 |
| 開催地（和） | 信州大学 工学部 地域共同研究センター３階研修室 |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | 薄膜プロセス・材料，一般 |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | CPM |
| 会議コード | 2010-10-CPM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | スパッタ法を用いた有機EL素子用低温堆積ITO薄膜の検討 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Examination of ITO Thin Films Deposited at Low-tempurature for OLEDs by Sputtering Method |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 有機EL素子 / OLEDs |
| キーワード(2)（和/英） | ITO薄膜 / ITO thin film |
| キーワード(3)（和/英） | 低温度 / low temperature |
| キーワード(4)（和/英） | アンバランスドマグネトロンスパッタ法 / Unbalanced magnetron sputtering method |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 中村 陽平 / Yohei Nakamura / ナカムラ ヨウヘイ |
| 第1著者 所属（和/英） | 新潟大学 (略称： 新潟大) Niigata University (略称： Niigata Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 劉 暢 / Chang Liu / リュウ チョウ |
| 第2著者 所属（和/英） | 新潟大学 (略称： 新潟大) Niigata University (略称： Niigata Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 清水 英彦 / Hidehiko Shimizu / シミズ ヒデヒコ |
| 第3著者 所属（和/英） | 新潟大学 (略称： 新潟大) Niigata University (略称： Niigata Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 岩野 春男 / Haruo Iwano / イワノ ハルオ |
| 第4著者 所属（和/英） | 新潟大学 (略称： 新潟大) Niigata University (略称： Niigata Univ.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 福嶋 康夫 / Yasuo Fukushima / フクシマ ヤスオ |
| 第5著者 所属（和/英） | 新潟大学 (略称： 新潟大) Niigata University (略称： Niigata Univ.) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 永田 向太郎 / Kotaro Nagata / ナガタ コウタロウ |
| 第6著者 所属（和/英） | 新潟大学 (略称： 新潟大) Niigata University (略称： Niigata Univ.) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | 星 陽一 / Yoichi Hoshi / ホシ ヨウイチ |
| 第7著者 所属（和/英） | 東京工芸大学 (略称： 東京工芸大) Tokyo Polytechnic University (略称： Tokyo Polytechnic Univ.) |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2010-10-29 11:50:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | CPM |
| 資料番号 | CPM2010-105 |
| 巻番号（vol） | vol.110 |
| 号番号（no） | no.261 |
| ページ範囲 | pp.71-75 |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | 2010-10-21 (CPM) |
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