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講演抄録/キーワード
講演名 2010-10-25 16:35
放射角制御可能なマイクロカラム用電子銃の作成と評価
藤野高弘高木康男小池昭史静岡大)・長尾昌善吉田知也産総研)・村田英一酒田健太郎名城大)・根尾陽一郎青木 徹三村秀典静岡大ED2010-135 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2010-135
抄録 (和) 本研究グループは電子源と電子光学系を半導体加工技術により同一基板内に作製したマイクロサイズの電子線筐筒(マイクロカラム)の実現を目標としている.更にマイクロカラムにより高精細なクロスオーバー形成が可能となれば,高密度に集積化されたマルチビームが実現可能となり,マスクレスリソグラフィーへの応用が期待される.これまでに,引き出し電極以外に4極から構成されるマイクロカラムの試作を行い,その収束特性の評価を行った.この結果,1mmの作動距離おいて40μm径のクロスオーバー形成に成功している.更なるビーム径の縮小化には,静電レンズに入射する電子ビームの開き角を狭小化し,且つ可変に制御する必要がある.上記の性能を実現する為に,新たにイマージョンレンズを導入したマイクロ電子銃を設計・作製した.これらのビーム放射角について特性評価を行い良好な結果を得たので報告する. 
(英) Our final goal is to fabricate truly meaning micro-column, that consists of micro-sized field emitter and electro optics lens by using semiconductor processes. Micro-columns could be integrated with high density and finely focused multibeams could also be realized. It has highly potential for maskless lithography (ML2). It was already reported that the previous microcolumn with 5 stacked gate electrodes made a certain crossover less than 40 m in diameter. In order to control an initial emission angle to reduce a crossover size, we had introduced an newly designed immersion lens. The superior characteristics were described in this report.
キーワード (和) マイクロカラム / マルチビーム / マスクレスリソグラフィー / イマージョンレンズ / / / /  
(英) microcolumn / multibeam / maskless lithography / immersion lens / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 110, no. 249, ED2010-135, pp. 39-42, 2010年10月.
資料番号 ED2010-135 
発行日 2010-10-18 (ED) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード ED2010-135 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2010-135

研究会情報
研究会 ED  
開催期間 2010-10-25 - 2010-10-26 
開催地(和) 宇治おうばくプラザ(京都大学) 
開催地(英)  
テーマ(和) 電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 ED 
会議コード 2010-10-ED 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 放射角制御可能なマイクロカラム用電子銃の作成と評価 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Fabrication and Evaluation of Electron Gun for the Micro-Column to controll a radiation angle 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) マイクロカラム / microcolumn  
キーワード(2)(和/英) マルチビーム / multibeam  
キーワード(3)(和/英) マスクレスリソグラフィー / maskless lithography  
キーワード(4)(和/英) イマージョンレンズ / immersion lens  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 藤野 高弘 / Takahiro Fujino / フジノ タカヒロ
第1著者 所属(和/英) 静岡大学 (略称: 静岡大)
Shizuoka University (略称: Shizuoka Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 高木 康男 / Yasuo Takagi / タカギ ヤスオ
第2著者 所属(和/英) 静岡大学 (略称: 静岡大)
Shizuoka University (略称: Shizuoka Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 小池 昭史 / Akifumi Koike / コイケ アキフミ
第3著者 所属(和/英) 静岡大学 (略称: 静岡大)
Shizuoka University (略称: Shizuoka Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 長尾 昌善 / Masayoshi Nagao / ナガオ マサヨシ
第4著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 吉田 知也 / Tomoya Yoshida / ヨシダ トモヤ
第5著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 村田 英一 / Hidekazu Murata / ムラタ ヒデカズ
第6著者 所属(和/英) 名城大学 (略称: 名城大)
Meijo University (略称: Meijo Univ.)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 酒田 健太郎 / Kentaro Sakata / サカタ ケンタロウ
第7著者 所属(和/英) 名城大学 (略称: 名城大)
Meijo University (略称: Meijo Univ.)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) 根尾 陽一郎 / Yoichiro Neo / ネオ ヨウイチロウ
第8著者 所属(和/英) 静岡大学 (略称: 静岡大)
Shizuoka University (略称: Shizuoka Univ.)
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) 青木 徹 / Toru Aoki / アオキ トオル
第9著者 所属(和/英) 静岡大学 (略称: 静岡大)
Shizuoka University (略称: Shizuoka Univ.)
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) 三村 秀典 / Hidenori Mimura / ミムラ ヒデノリ
第10著者 所属(和/英) 静岡大学 (略称: 静岡大)
Shizuoka University (略称: Shizuoka Univ.)
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講演者
発表日時 2010-10-25 16:35:00 
発表時間 25 
申込先研究会 ED 
資料番号 IEICE-ED2010-135 
巻番号(vol) IEICE-110 
号番号(no) no.249 
ページ範囲 pp.39-42 
ページ数 IEICE-4 
発行日 IEICE-ED-2010-10-18 


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