講演抄録/キーワード |
講演名 |
2010-08-27 12:05
酸化物導電膜チャネルを用いた積層型FeRAMの検討 ○菅野孝一・渡辺重佳(湘南工科大) SDM2010-143 ICD2010-58 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2010-143 ICD2010-58 |
抄録 |
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文献情報 |
信学技報, vol. 110, no. 183, ICD2010-58, pp. 105-110, 2010年8月. |
資料番号 |
ICD2010-58 |
発行日 |
2010-08-19 (SDM, ICD) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
PDFダウンロード |
SDM2010-143 ICD2010-58 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2010-143 ICD2010-58 |
研究会情報 |
研究会 |
ICD SDM |
開催期間 |
2010-08-26 - 2010-08-27 |
開催地(和) |
札幌エルプラザ内男女共同参画センター |
開催地(英) |
Sapporo Center for Gender Equality |
テーマ(和) |
低電圧/低消費電力技術、新デバイス・回路とその応用 |
テーマ(英) |
Low voltage/low power techniques, novel devices, circuits, and applications |
講演論文情報の詳細 |
申込み研究会 |
ICD |
会議コード |
2010-08-ICD-SDM |
本文の言語 |
日本語 |
タイトル(和) |
酸化物導電膜チャネルを用いた積層型FeRAMの検討 |
サブタイトル(和) |
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タイトル(英) |
Study of stacked FeRAM using ITO channel |
サブタイトル(英) |
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
菅野 孝一 / Koichi Sugano / スガノ コウイチ |
第1著者 所属(和/英) |
湘南工科大学 (略称: 湘南工科大)
Shonan Institute of Technology (略称: Shonan Inst. of Tech) |
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
渡辺 重佳 / Shigeyoshi Watanabe / ワタナベ シゲヨシ |
第2著者 所属(和/英) |
湘南工科大学 (略称: 湘南工科大)
Shonan Institute of Technology (略称: Shonan Inst. of Tech) |
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講演者 |
第1著者 |
発表日時 |
2010-08-27 12:05:00 |
発表時間 |
25分 |
申込先研究会 |
ICD |
資料番号 |
SDM2010-143, ICD2010-58 |
巻番号(vol) |
vol.110 |
号番号(no) |
no.182(SDM), no.183(ICD) |
ページ範囲 |
pp.105-110 |
ページ数 |
6 |
発行日 |
2010-08-19 (SDM, ICD) |
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