講演抄録/キーワード |
講演名 |
2010-07-29 15:50
[招待講演]超臨界流体を用いた多孔質低誘電率薄膜プロセス ~ 細孔の評価と洗浄 ~ ○近藤英一(山梨大) CPM2010-35 エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2010-35 |
抄録 |
(和) |
超臨界二酸化炭素は,ナノレベルの浸透性,表面張力がゼロ,溶媒能などをあわせ持つ特異な流体である.これらの特長は多孔質低誘電率薄膜のプロセスに最適であり,細孔内部の洗浄,ポストドライエッチクリーニング,細孔の内部修飾まで広く適用が可能である.超臨界流体中での細孔エンジニアリングの詳細な研究データはこれまでほとんどない.この研究では,著者らが開発した超臨界流体中のその場エリプソメトリを用いて超臨界中での多孔質薄膜の挙動を考察し洗浄や浸透過程の解析に適用した例について述べている |
(英) |
Supercritical carbon dioxide possesses nano-penetration ability, zero surface tension and solvent capability. These properties are a perfect fit for the processing of porous low-k films from synthesis, through pore cleaning to post-dry etch reparation. Science of surfaces and thin films in supercritical fluids has not been studied very much because of its novelty in microelectronic applications. In-situ ellipsoemtry has been developed in the laboratory, and for this purpose, this technique was applied to investigating the science of porosity engineering of low-k dielectrics with respect to pore characterization and pore cleaning. |
キーワード |
(和) |
超臨界CO$_2$流体 / エリプソメトリ / 細孔構造解析 / 洗浄 / 凝集 / / / |
(英) |
Supercritical CO$_2$ fluid / ellipsometry / porosimetry / cleaning / condensation / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 110, no. 154, CPM2010-35, pp. 23-28, 2010年7月. |
資料番号 |
CPM2010-35 |
発行日 |
2010-07-22 (CPM) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
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