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講演抄録/キーワード
講演名 2010-07-29 15:50
[招待講演]超臨界流体を用いた多孔質低誘電率薄膜プロセス ~ 細孔の評価と洗浄 ~
近藤英一山梨大CPM2010-35 エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2010-35
抄録 (和) 超臨界二酸化炭素は,ナノレベルの浸透性,表面張力がゼロ,溶媒能などをあわせ持つ特異な流体である.これらの特長は多孔質低誘電率薄膜のプロセスに最適であり,細孔内部の洗浄,ポストドライエッチクリーニング,細孔の内部修飾まで広く適用が可能である.超臨界流体中での細孔エンジニアリングの詳細な研究データはこれまでほとんどない.この研究では,著者らが開発した超臨界流体中のその場エリプソメトリを用いて超臨界中での多孔質薄膜の挙動を考察し洗浄や浸透過程の解析に適用した例について述べている 
(英) Supercritical carbon dioxide possesses nano-penetration ability, zero surface tension and solvent capability. These properties are a perfect fit for the processing of porous low-k films from synthesis, through pore cleaning to post-dry etch reparation. Science of surfaces and thin films in supercritical fluids has not been studied very much because of its novelty in microelectronic applications. In-situ ellipsoemtry has been developed in the laboratory, and for this purpose, this technique was applied to investigating the science of porosity engineering of low-k dielectrics with respect to pore characterization and pore cleaning.
キーワード (和) 超臨界CO$_2$流体 / エリプソメトリ / 細孔構造解析 / 洗浄 / 凝集 / / /  
(英) Supercritical CO$_2$ fluid / ellipsometry / porosimetry / cleaning / condensation / / /  
文献情報 信学技報, vol. 110, no. 154, CPM2010-35, pp. 23-28, 2010年7月.
資料番号 CPM2010-35 
発行日 2010-07-22 (CPM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード CPM2010-35 エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2010-35

研究会情報
研究会 CPM  
開催期間 2010-07-29 - 2010-07-30 
開催地(和) 道の駅しゃり 会議室 
開催地(英) Michino-Eki Shari Meeting Room 
テーマ(和) 電子部品・材料,一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 CPM 
会議コード 2010-07-CPM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 超臨界流体を用いた多孔質低誘電率薄膜プロセス 
サブタイトル(和) 細孔の評価と洗浄 
タイトル(英) Science in porosity engineering of low-k dielectrics using supercritical carbon dioxide 
サブタイトル(英) Pore characterization and pore cleaning 
キーワード(1)(和/英) 超臨界CO$_2$流体 / Supercritical CO$_2$ fluid  
キーワード(2)(和/英) エリプソメトリ / ellipsometry  
キーワード(3)(和/英) 細孔構造解析 / porosimetry  
キーワード(4)(和/英) 洗浄 / cleaning  
キーワード(5)(和/英) 凝集 / condensation  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 近藤 英一 / Eiichi Kondoh / コンドウ エイイチ
第1著者 所属(和/英) 山梨大学 (略称: 山梨大)
University of Yamanashi (略称: Univ. of Yamanashi.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2010-07-29 15:50:00 
発表時間 50分 
申込先研究会 CPM 
資料番号 CPM2010-35 
巻番号(vol) vol.110 
号番号(no) no.154 
ページ範囲 pp.23-28 
ページ数
発行日 2010-07-22 (CPM) 


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