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講演抄録/キーワード
講演名 2010-07-12 14:05
光反応性有機薄膜を用いた有機EL素子形成
室山雅和横倉精二斉藤 航宮川大地田中邦明臼井博明東京農工大EID2010-2 OME2010-37 エレソ技報アーカイブへのリンク:EID2010-2 OME2010-37
抄録 (和) 重合性モノマーと光重合開始剤の共蒸着により形成した感光性薄膜に紫外光を照射し,有機溶媒で現像することによってカルバゾール高分子薄膜のパターンを形成した.同様にして,モノマーと光重合開始剤の混合溶液をスピンコートし,溶媒が乾燥して膜の結晶化が始まる前に紫外露光することによっても高分子薄膜のパターンが形成された.パターン形成性や膜表面の形態は,蒸着法が優れた結果を与えた.このようにして形成したカルバゾール高分子膜パターンを利用して,有機EL素子を形成した.パターン形成のプロセスは発光特性に大きな損傷を与えないことが見出された. 
(英) Photosensitive thin films were prepared by codeposition of polymerizable monomer and photoinitiator, which was patterned by UV irradiation followed by developing in an organic solvent. Formation of thin film patterns of carbazole polymer was achieved by this method. Similarly, photosensitive films were prepared by spin-coating a mixed solution of carbazole acrylate monomer and photoinitiator. Pattern formation was achieved when UV irradiation was made before the spin-coated film is completely dried to form polycrystalline thin films. However, the vapor-deposited films were superior in pattern formation and surface morphology. This technique was applied for the preparation of phosphorescent layer of an organic light emitting diode (OLED). It was found that the patterning process does not cause a harmful damage to the device characteristics, but rather improve the characteristics due to the polymerization.
キーワード (和) 光パターン形成 / 感光性薄膜 / 有機EL / カルバゾール / 蒸着重合 / スピンコート / /  
(英) photopatterning / photosensitive film / OLED / carbazole / vapor deposition / spin-coating / /  
文献情報 信学技報, vol. 110, no. 124, OME2010-37, pp. 5-10, 2010年7月.
資料番号 OME2010-37 
発行日 2010-07-05 (EID, OME) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380
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PDFダウンロード EID2010-2 OME2010-37 エレソ技報アーカイブへのリンク:EID2010-2 OME2010-37

研究会情報
研究会 OME EID ITE-IDY  
開催期間 2010-07-12 - 2010-07-12 
開催地(和) 機械振興会館 
開催地(英) Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. 
テーマ(和) フレキシブルエレクトロニクス 
テーマ(英) Flexible Electronics 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 OME 
会議コード 2010-07-OME-EID-IDY 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 光反応性有機薄膜を用いた有機EL素子形成 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Fabrication of Organic Light Emitting Diodes by use of Photosensitive Films 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 光パターン形成 / photopatterning  
キーワード(2)(和/英) 感光性薄膜 / photosensitive film  
キーワード(3)(和/英) 有機EL / OLED  
キーワード(4)(和/英) カルバゾール / carbazole  
キーワード(5)(和/英) 蒸着重合 / vapor deposition  
キーワード(6)(和/英) スピンコート / spin-coating  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 室山 雅和 / Masakazu Muroyama / ムロヤマ マサカズ
第1著者 所属(和/英) 東京農工大学 (略称: 東京農工大)
Tokyo University of Agriculture and Technology (略称: Tokyo Univ. of Agr. & Tech.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 横倉 精二 / Seiji Yokokura / ヨコクラ セイジ
第2著者 所属(和/英) 東京農工大学 (略称: 東京農工大)
Tokyo University of Agriculture and Technology (略称: Tokyo Univ. of Agr. & Tech.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 斉藤 航 / Wataru Saito / サイトウ ワタル
第3著者 所属(和/英) 東京農工大学 (略称: 東京農工大)
Tokyo University of Agriculture and Technology (略称: Tokyo Univ. of Agr. & Tech.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 宮川 大地 / Daichi Miyagawa / ミヤガワ ダイチ
第4著者 所属(和/英) 東京農工大学 (略称: 東京農工大)
Tokyo University of Agriculture and Technology (略称: Tokyo Univ. of Agr. & Tech.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 田中 邦明 / Kuniaki Tanaka / タナカ クニアキ
第5著者 所属(和/英) 東京農工大学 (略称: 東京農工大)
Tokyo University of Agriculture and Technology (略称: Tokyo Univ. of Agr. & Tech.)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 臼井 博明 / Hiroaki Usui / ウスイ ヒロアキ
第6著者 所属(和/英) 東京農工大学 (略称: 東京農工大)
Tokyo University of Agriculture and Technology (略称: Tokyo Univ. of Agr. & Tech.)
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講演者
発表日時 2010-07-12 14:05:00 
発表時間 25 
申込先研究会 OME 
資料番号 IEICE-EID2010-2,IEICE-OME2010-37 
巻番号(vol) IEICE-110 
号番号(no) no.123(EID), no.124(OME) 
ページ範囲 pp.5-10 
ページ数 IEICE-6 
発行日 IEICE-EID-2010-07-05,IEICE-OME-2010-07-05 


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