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講演抄録/キーワード
講演名 2010-06-25 14:50
キラルなポリジアセチレン薄膜の作製とその重合過程の検討
金 英輝篠 竜徳大嶋優記間中孝彰岩本光正東工大EMD2010-11 CPM2010-25 OME2010-30 エレソ技報アーカイブへのリンク:EMD2010-11 CPM2010-25 OME2010-30
抄録 (和) 光重合過程への円偏光の導入により、キラルなポリジアセチレン(PDA)薄膜の作製が可能である。本手法では、モノマー蒸着時の基板温度や重合後の相変化(青相-赤相)が、誘起キラリティーの強さや安定性に影響を与えることが分かっている。本論文では、そのキラルなPDA薄膜を用いた電気的・光学的特性に言及すると共に、下層をキラル有機膜とした、上層PDA薄膜へのキラリティー誘起の可能性を検討する。 
(英) Chiral poly(diacetylene) film is prepared by using circularly polarized light(CPL) in photopolymerization process. It is found that the substrate temperature during monomer deposition and the phase-transition of a PDA affect the strength and stability of the induced chirality. In this paper, we discussed the electrical and optical properties of the chiral PDA film, and investigated the possiblity of chiral induction to a PDA film on another chiral organic film.
キーワード (和) キラリティー / ポリジアセチレン / Field-Effect-Transistor / 電界発光 / / / /  
(英) Chirality / Poly(diacetylene) / Field-Effect-Transistor / Electroluminescence / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 110, no. 101, OME2010-30, pp. 13-17, 2010年6月.
資料番号 OME2010-30 
発行日 2010-06-18 (EMD, CPM, OME) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード EMD2010-11 CPM2010-25 OME2010-30 エレソ技報アーカイブへのリンク:EMD2010-11 CPM2010-25 OME2010-30

研究会情報
研究会 EMD CPM OME  
開催期間 2010-06-25 - 2010-06-25 
開催地(和) 機械振興会館 地下3階研修2号室 
開催地(英) Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. 
テーマ(和) 材料デバイスサマーミーティング 
テーマ(英) Summer Meeting of materials and devices 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 OME 
会議コード 2010-06-EMD-CPM-OME 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) キラルなポリジアセチレン薄膜の作製とその重合過程の検討 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Preparation of Chiral Poly(diacetylene) Film and Study of Its Polymerization Process 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) キラリティー / Chirality  
キーワード(2)(和/英) ポリジアセチレン / Poly(diacetylene)  
キーワード(3)(和/英) Field-Effect-Transistor / Field-Effect-Transistor  
キーワード(4)(和/英) 電界発光 / Electroluminescence  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 金 英輝 / Hideki Kohn / コン ヒデキ
第1著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Tokyo Inst. of Tech.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 篠 竜徳 / Tatsunori Shino / シノ タツノリ
第2著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Tokyo Inst. of Tech.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 大嶋 優記 / Yuki Ohshima / オオシマ ユウキ
第3著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Tokyo Inst. of Tech.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 間中 孝彰 / Takaaki Manaka / マナカ タカアキ
第4著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Tokyo Inst. of Tech.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 岩本 光正 / Mitsumasa Iwamoto / イワモト ミツマサ
第5著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Tokyo Inst. of Tech.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2010-06-25 14:50:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 OME 
資料番号 EMD2010-11, CPM2010-25, OME2010-30 
巻番号(vol) vol.110 
号番号(no) no.99(EMD), no.100(CPM), no.101(OME) 
ページ範囲 pp.13-17 
ページ数
発行日 2010-06-18 (EMD, CPM, OME) 


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