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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2010-06-22 14:35 GeO2/Ge界面反応の理解に基づくGeO2膜物性の劣化現象の制御 ○喜多浩之（東大/JST）・王 盛凱・李 忠賢・吉田まほろ（東大）・西村知紀・長汐晃輔・鳥海 明（東大/JST）  SDM2010-43 エレソ技報アーカイブへのリンク：SDM2010-43 |
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| 抄録 | （和） | (まだ登録されていません) |
| （英） | (Not available yet) | |
| キーワード | （和） | / / / / / / / |
| （英） | / / / / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 110, no. 90, SDM2010-43, pp. 55-60, 2010年6月. | |
| 資料番号 | SDM2010-43 | |
| 発行日 | 2010-06-15 (SDM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | SDM2010-43 エレソ技報アーカイブへのリンク：SDM2010-43 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
| 開催期間 | 2010-06-22 - 2010-06-22 |
| 開催地（和） | 東京大学（生産研An棟） |
| 開催地（英） | An401・402 Inst. Indus. Sci., The Univ. of Tokyo |
| テーマ（和） | ゲート絶縁薄膜、容量膜、機能膜およびメモリ技術（応用物理学会、シリコンテクノロジー分科会、研究集会との合同開催） |
| テーマ（英） | Science and Technology for Dielectric Thin Films for MIS Devices |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | SDM |
| 会議コード | 2010-06-SDM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | GeO2/Ge界面反応の理解に基づくGeO2膜物性の劣化現象の制御 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Control of GeO2 Properties and Improvement of Ge/GeO2 Interface Characteristics Based on the Understanding of Geo2/Ge Interface Reaction |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | / |
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| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 喜多 浩之 / Koji Kita / キタ コウジ |
| 第1著者 所属（和/英） | 東京大学/JST-CREST (略称： 東大/JST) The University of Tokyo/JST-CREST (略称： Univ. of Tokyo/JST-CREST) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 王 盛凱 / Sheng Kai Wang / ワン シェンガイ |
| 第2著者 所属（和/英） | 東京大学 (略称： 東大) The University of Tokyo (略称： Univ. of Tokyo) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 李 忠賢 / ChoongHyun Lee / リ チュンヒュン |
| 第3著者 所属（和/英） | 東京大学 (略称： 東大) The University of Tokyo (略称： Univ. of Tokyo) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 吉田 まほろ / Mahoro Yoshida / ヨシダ マホロ |
| 第4著者 所属（和/英） | 東京大学 (略称： 東大) The University of Tokyo (略称： Univ. of Tokyo) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 西村 知紀 / Tomonori Nishimura / ニシムラ トモノリ |
| 第5著者 所属（和/英） | 東京大学/JST-CREST (略称： 東大/JST) The University of Tokyo/JST-CREST (略称： Univ. of Tokyo/JST-CREST) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 長汐 晃輔 / Kosuke Nagashio / ナガシオ コウスケ |
| 第6著者 所属（和/英） | 東京大学/JST-CREST (略称： 東大/JST) The University of Tokyo/JST-CREST (略称： Univ. of Tokyo/JST-CREST) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | 鳥海 明 / Akira Toriumi / トリウミ アキラ |
| 第7著者 所属（和/英） | 東京大学/JST-CREST (略称： 東大/JST) The University of Tokyo/JST-CREST (略称： Univ. of Tokyo/JST-CREST) |
| 第8著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2010-06-22 14:35:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | SDM |
| 資料番号 | SDM2010-43 |
| 巻番号（vol） | vol.110 |
| 号番号（no） | no.90 |
| ページ範囲 | pp.55-60 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2010-06-15 (SDM) |
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