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講演抄録/キーワード
講演名 2010-06-18 12:15
メチルBCN膜の低温ドライエッチング評価
青木秀充原 誠増住拓朗呂 志明九鬼知博木村千春杉野 隆阪大ED2010-47 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2010-47
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文献情報 信学技報, vol. 110, no. 80, ED2010-47, pp. 75-80, 2010年6月.
資料番号 ED2010-47 
発行日 2010-06-10 (ED) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
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研究会情報
研究会 ED  
開催期間 2010-06-17 - 2010-06-18 
開催地(和) 北陸先端大 
開催地(英) JAIST 
テーマ(和) 半導体のプロセス・デバイス(表面,界面,信頼性),一般 
テーマ(英) Process and device technology of semiconductors (surface, interface, reliability, etc.) 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 ED 
会議コード 2010-06-ED 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) メチルBCN膜の低温ドライエッチング評価 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Methyl-BCN Film using Low Temperature Etching. 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 青木 秀充 / Hidemitsu Aoki / アオキ ヒデミツ
第1著者 所属(和/英) 大阪大学 (略称: 阪大)
Osaka University (略称: Osaka Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 原 誠 / Makoto Hara / ハラ マコト
第2著者 所属(和/英) 大阪大学 (略称: 阪大)
Osaka University (略称: Osaka Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 増住 拓朗 / Takuro Masuzumi / マスズミ タクロウ
第3著者 所属(和/英) 大阪大学 (略称: 阪大)
Osaka University (略称: Osaka Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 呂 志明 / Zhiming Lu / ロ シンメイ
第4著者 所属(和/英) 大阪大学 (略称: 阪大)
Osaka University (略称: Osaka Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 九鬼 知博 / Tomohiro Kuki / クキ トモヒロ
第5著者 所属(和/英) 大阪大学 (略称: 阪大)
Osaka University (略称: Osaka Univ.)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 木村 千春 / Chiharu Kimura / キムラ チハル
第6著者 所属(和/英) 大阪大学 (略称: 阪大)
Osaka University (略称: Osaka Univ.)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 杉野 隆 / Takashi Sugino / スギノ タカシ
第7著者 所属(和/英) 大阪大学 (略称: 阪大)
Osaka University (略称: Osaka Univ.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2010-06-18 12:15:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 ED 
資料番号 ED2010-47 
巻番号(vol) vol.110 
号番号(no) no.80 
ページ範囲 pp.75-80 
ページ数
発行日 2010-06-10 (ED) 


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