講演抄録/キーワード |
講演名 |
2010-05-14 10:50
Ga2O3酸素センサの作製と評価 ○茅野真也・山口直哉・以西雅章(静岡大) ED2010-27 CPM2010-17 SDM2010-27 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2010-27 CPM2010-17 SDM2010-27 |
抄録 |
(和) |
近年、環境問題に対する関心の高まりから、排気ガスの制御に酸素ガスセンサが注目されている。酸化ガリウムは900℃以上で酸素検知特性を持つことから、高温用酸素ガスセンサとして注目されている。そこで本研究ではβ-Ga2O3薄膜をRFマグネトロンスパッタリング法で生成し、Ar:O2流量比とRFパワー、膜厚の結晶特性、酸素センサ特性への影響について調べた。その結果、作成した薄膜の結晶特性は、Ar:O2流量比5:1で最も良くなり、酸素感度は膜厚に依存するという結果が得られた。 |
(英) |
Recentry, from a point of environmental problems, oxygen gas sensors attract attention of controlling the exhaust gas. The Ga2O3 has an oxygen detection characteristic at more than 900℃, so this material ttracts much attention as an oxygen sensor at high temperature. The β-Ga2O3 films were prepared by the RF magnetron sputtering method. The effect of Ar:O2 flow ratio, RF power, and thickness of films on the crystal and oxygen sensing properties were investigated. As a result, the superior crystal properties were obtained at the Ar:O2 flow ratio of 5:1. It was found that the oxygen sensitivity depended on a film thickness. |
キーワード |
(和) |
酸化ガリウム / 金属酸化物 / マグネトロンスパッタリング法 / 急速アニール / 酸素センサ / / / |
(英) |
Gallium oxide / Metal oxides / Magnetron sputtering method / Rapid thermal annealing(RTA) / Oxygen sensor / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 110, no. 31, SDM2010-27, pp. 57-60, 2010年5月. |
資料番号 |
SDM2010-27 |
発行日 |
2010-05-06 (ED, CPM, SDM) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
PDFダウンロード |
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研究会情報 |
研究会 |
SDM CPM ED |
開催期間 |
2010-05-13 - 2010-05-14 |
開催地(和) |
静岡大学(浜松キャンパス) |
開催地(英) |
Shizuoka University (Hamamatsu Campus) |
テーマ(和) |
結晶成長、評価及びデバイス(化合物、Si、SiGe、電子・光材料) |
テーマ(英) |
Crystal growth, evaluation and device (Compound, Si, SiGe, Electronic and light emitting materials) |
講演論文情報の詳細 |
申込み研究会 |
SDM |
会議コード |
2010-05-SDM-CPM-ED |
本文の言語 |
日本語 |
タイトル(和) |
Ga2O3酸素センサの作製と評価 |
サブタイトル(和) |
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タイトル(英) |
Preparation and evaluation of Ga2O3 oxygen sensors |
サブタイトル(英) |
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キーワード(1)(和/英) |
酸化ガリウム / Gallium oxide |
キーワード(2)(和/英) |
金属酸化物 / Metal oxides |
キーワード(3)(和/英) |
マグネトロンスパッタリング法 / Magnetron sputtering method |
キーワード(4)(和/英) |
急速アニール / Rapid thermal annealing(RTA) |
キーワード(5)(和/英) |
酸素センサ / Oxygen sensor |
キーワード(6)(和/英) |
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キーワード(7)(和/英) |
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キーワード(8)(和/英) |
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
茅野 真也 / Shinya Kayano / カヤノ シンヤ |
第1著者 所属(和/英) |
静岡大学 (略称: 静岡大)
Shizuoka University (略称: Shizuoka Univ.) |
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
山口 直哉 / Naoya Yamaguchi / ヤマグチ ナオヤ |
第2著者 所属(和/英) |
静岡大学 (略称: 静岡大)
Shizuoka University (略称: Shizuoka Univ.) |
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
以西 雅章 / Masaaki Isai / イサイ マサアキ |
第3著者 所属(和/英) |
静岡大学 (略称: 静岡大)
Shizuoka University (略称: Shizuoka Univ.) |
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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講演者 |
第1著者 |
発表日時 |
2010-05-14 10:50:00 |
発表時間 |
25分 |
申込先研究会 |
SDM |
資料番号 |
ED2010-27, CPM2010-17, SDM2010-27 |
巻番号(vol) |
vol.110 |
号番号(no) |
no.29(ED), no.30(CPM), no.31(SDM) |
ページ範囲 |
pp.57-60 |
ページ数 |
4 |
発行日 |
2010-05-06 (ED, CPM, SDM) |
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