講演抄録/キーワード |
講演名 |
2010-04-23 13:30
Poly-Si TFTのS値としきい値に対するグレインサイズの影響 ○大城文明・坂本明典・野口 隆(琉球大)・大鉢 忠(同志社大) SDM2010-7 OME2010-7 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2010-7 OME2010-7 |
抄録 |
(和) |
グレインサイズを用いたポリSi膜の欠陥モデルを提案する。TFTにおいて、ポリSiのグレインサイズは重要なパラメータの1つであり、強反転領域における移動度、弱反転領域におけるS値に影響する。今回、グレインサイズを用いて、しきい値に影響するS値を算出し、基本的な式を用いてId-Vg特性を計算した。提案モデルに基づき、正確なTFTシミュレーションの開発が期待できる。 |
(英) |
A model of defects in poly-Si film by using grain size was proposed. The gate voltage swing factor S which related to the threshold voltage was estimated to calculate Id-Vg characteristics. The development of more precise simulation of TFT is expected based on the proposed model. |
キーワード |
(和) |
薄膜トランジスタ / シミュレーション / 欠陥 / トラップ密度 / S値 / しきい値 / / |
(英) |
TFT / simulation / defect / trap density / S factor / threshold voltage / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 110, no. 15, SDM2010-7, pp. 29-32, 2010年4月. |
資料番号 |
SDM2010-7 |
発行日 |
2010-04-16 (SDM, OME) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
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