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講演抄録/キーワード
講演名 2010-04-23 13:50
フォトセンサダイオードのためのスパッタ法によるSi膜の特性
ムジラネザ ジョンドゥジュ宮平知幸坂本明典野口 隆琉球大)・Ching-Ping ChiuMeng-Hsin ChenWen-Chang Yeh国立台湾科技大SDM2010-8 OME2010-8 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2010-8 OME2010-8
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文献情報 信学技報, vol. 110, no. 15, SDM2010-8, pp. 33-37, 2010年4月.
資料番号 SDM2010-8 
発行日 2010-04-16 (SDM, OME) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
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研究会情報
研究会 SDM OME  
開催期間 2010-04-23 - 2010-04-23 
開催地(和) 沖縄県青年会館 
開催地(英) Okinawa-Ken-Seinen-Kaikan Bldg. 
テーマ(和) 薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術および一般 
テーマ(英) Advanced Thin-Film Devices (Si, Compound, Organic) and Related Topics 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SDM 
会議コード 2010-04-SDM-OME 
本文の言語 英語(日本語タイトルあり) 
タイトル(和) フォトセンサダイオードのためのスパッタ法によるSi膜の特性 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Characterization of Sputtered-Si Films for Photo-Sensor Diodes 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) ムジラネザ ジョンドゥジュ / Jean de Dieu Mugiraneza / ムジラネザ ジョンドゥジュ
第1著者 所属(和/英) 琉球大学 (略称: 琉球大)
university of the ryukyus (略称: Univ. of Ryukyus)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 宮平 知幸 / Tomoyuki Miyahira / ミヤヒラ トモユキ
第2著者 所属(和/英) 琉球大学 (略称: 琉球大)
university of the ryukyus (略称: Univ. of Ryukyus)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 坂本 明典 / Akinori Sakamoto / サカモト アキノリ
第3著者 所属(和/英) 琉球大学 (略称: 琉球大)
university of the ryukyus (略称: Univ. of Ryukyus)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 野口 隆 / Takashi Noguchi / ノグチ タカシ
第4著者 所属(和/英) 琉球大学 (略称: 琉球大)
university of the ryukyus (略称: Univ. of Ryukyus)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) Ching-Ping Chiu / Ching-Ping Chiu /
第5著者 所属(和/英) NTUST Taiwan (略称: 国立台湾科技大)
NTUST Taiwan (略称: NTUST)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) Meng-Hsin Chen / Meng-Hsin Chen /
第6著者 所属(和/英) NTUST Taiwan (略称: 国立台湾科技大)
NTUST Taiwan (略称: NTUST)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) Wen-Chang Yeh / Wen-Chang Yeh /
第7著者 所属(和/英) NTUST Taiwan (略称: 国立台湾科技大)
NTUST Taiwan (略称: NTUST)
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講演者 第1著者 
発表日時 2010-04-23 13:50:00 
発表時間 20分 
申込先研究会 SDM 
資料番号 SDM2010-8, OME2010-8 
巻番号(vol) vol.110 
号番号(no) no.15(SDM), no.16(OME) 
ページ範囲 pp.33-37 
ページ数
発行日 2010-04-16 (SDM, OME) 


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