講演抄録/キーワード |
講演名 |
2010-01-29 11:30
凹版オフセット印刷によるマイクロレンズアレイ形成技術の開発 ○岸岡淳史・関口慎司・杉田辰哉(日立)・小村真一・佐々木 誠(日立ディスプレイズ) EID2009-75 エレソ技報アーカイブへのリンク:EID2009-75 |
抄録 |
(和) |
凹版オフセット印刷を用いた新しいマイクロレンズアレイ形成技術を開発した。本印刷技術は、フォトリソグラフィを用いた形成方法などに比べて、液晶パネルへのダメージが少なく、低コストで簡単な工程でマイクロレンズアレイを作製できる。本技術を用いて形成したマイクロレンズアレイとコリメートバックライトと組み合わせた全透過型VGAパネルを試作し、正面輝度の向上を確認した。 |
(英) |
We developed a new MLA formation technology on LCDs by intaglio offset printing. The technology occurs no chemical and thermal damage to LCD panels. We fabricated a VGA transmissive LCD combining the MLA formed by this technology and a collimated backlight. The LCD offers higher on-axis luminance as that of a conventional device and was suitable for mobile displays. |
キーワード |
(和) |
マイクロレンズ / オフセット印刷 / コリメート / 輝度向上 / / / / |
(英) |
Microlens / Offset Printing / Collimated Backlight / / / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 109, pp. 115-118, 2010年1月. |
資料番号 |
|
発行日 |
2010-01-21 (EID) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
PDFダウンロード |
EID2009-75 エレソ技報アーカイブへのリンク:EID2009-75 |
研究会情報 |
研究会 |
ITE-IDY EID IEIJ-SSL IEE-EDD |
開催期間 |
2010-01-28 - 2010-01-29 |
開催地(和) |
九州大学(筑紫地区) |
開催地(英) |
Kyusyu Univ. (Chikushi Campus) |
テーマ(和) |
発光型/非発光型ディスプレイ |
テーマ(英) |
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講演論文情報の詳細 |
申込み研究会 |
ITE-IDY |
会議コード |
2010-01-IDY-EID-OMD-EDD |
本文の言語 |
日本語 |
タイトル(和) |
凹版オフセット印刷によるマイクロレンズアレイ形成技術の開発 |
サブタイトル(和) |
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タイトル(英) |
Microlens Array Formation Technology by Intaglio Offset Printing |
サブタイトル(英) |
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キーワード(1)(和/英) |
マイクロレンズ / Microlens |
キーワード(2)(和/英) |
オフセット印刷 / Offset Printing |
キーワード(3)(和/英) |
コリメート / Collimated Backlight |
キーワード(4)(和/英) |
輝度向上 / |
キーワード(5)(和/英) |
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キーワード(6)(和/英) |
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キーワード(7)(和/英) |
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キーワード(8)(和/英) |
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
岸岡 淳史 / Atsushi Kishioka / キシオカ アツシ |
第1著者 所属(和/英) |
日立製作所 生産技術研究所 (略称: 日立)
Hitachi,Ltd. Production Engineering Research Laboratory (略称: Hitachi,Ltd.) |
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
関口 慎司 / Shinji Sekiguchi / セキグチ シンジ |
第2著者 所属(和/英) |
日立製作所 生産技術研究所 (略称: 日立)
Hitachi,Ltd. Production Engineering Research Laboratory (略称: Hitachi,Ltd.) |
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
杉田 辰哉 / Tatsuya Sugita / スギタ タツヤ |
第3著者 所属(和/英) |
日立製作所 材料研究所 (略称: 日立)
Hitachi,Ltd. Materials Research Laboratory (略称: Hitachi,Ltd.) |
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
小村 真一 / Shinichi Komura / スギタ シンイチ |
第4著者 所属(和/英) |
日立ディスプレイズ (略称: 日立ディスプレイズ)
Hitachi Displays, Ltd. (略称: Hitachi Displays, Ltd.) |
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
佐々木 誠 / Makoto Sasaki / ササキ マコト |
第5著者 所属(和/英) |
日立ディスプレイズ (略称: 日立ディスプレイズ)
Hitachi Displays, Ltd. (略称: Hitachi Displays, Ltd.) |
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第7著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第8著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第9著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第10著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第11著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第12著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第13著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第14著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第15著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第16著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第17著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第18著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第19著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第20著者 所属(和/英) |
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講演者 |
第1著者 |
発表日時 |
2010-01-29 11:30:00 |
発表時間 |
5分 |
申込先研究会 |
ITE-IDY |
資料番号 |
EID2009-75 |
巻番号(vol) |
vol.109 |
号番号(no) |
no.404 |
ページ範囲 |
pp.115-118 |
ページ数 |
4 |
発行日 |
2010-01-21 (EID) |