研究会情報 |
研究会 |
ITE-IDY EID IEIJ-SSL IEE-EDD |
開催期間 |
2010-01-28 - 2010-01-29 |
開催地(和) |
九州大学(筑紫地区) |
開催地(英) |
Kyusyu Univ. (Chikushi Campus) |
テーマ(和) |
発光型/非発光型ディスプレイ |
テーマ(英) |
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講演論文情報の詳細 |
申込み研究会 |
EID |
会議コード |
2010-01-IDY-EID-OMD-EDD |
本文の言語 |
日本語 |
タイトル(和) |
スパッタリング法によるSi添加AlN: Eu薄膜EL素子の作製 |
サブタイトル(和) |
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タイトル(英) |
Si-doped AlN:Eu Thin-Film EL Devices Prepared by Sputtering Method |
サブタイトル(英) |
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キーワード(1)(和/英) |
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キーワード(2)(和/英) |
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キーワード(3)(和/英) |
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キーワード(4)(和/英) |
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キーワード(5)(和/英) |
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キーワード(6)(和/英) |
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キーワード(7)(和/英) |
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キーワード(8)(和/英) |
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
稲田 育弘 / Ikuhiro Inada / イナダ イクヒロ |
第1著者 所属(和/英) |
明治大学 (略称: 明大)
Meiji University (略称: Meiji Univ.) |
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
三浦 登 / Noboru Miura / ミウラ ノボル |
第2著者 所属(和/英) |
明治大学 (略称: 明大)
Meiji University (略称: Meiji Univ.) |
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
松本 皓永 / Hironaga Matsumoto / マツモト ヒロナガ |
第3著者 所属(和/英) |
明治大学 (略称: 明大)
Meiji University (略称: Meiji Univ.) |
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
中野 鐐太郎 / Ryotaro Nakano / ナカノ リョウタロウ |
第4著者 所属(和/英) |
明治大学 (略称: 明大)
Meiji University (略称: Meiji Univ.) |
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第5著者 所属(和/英) |
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第6著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第7著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第8著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第9著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第10著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第11著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第12著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第13著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第14著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第15著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第16著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第17著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第18著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第19著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第20著者 所属(和/英) |
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講演者 |
第1著者 |
発表日時 |
2010-01-28 14:25:00 |
発表時間 |
10分 |
申込先研究会 |
EID |
資料番号 |
EID2009-56 |
巻番号(vol) |
vol.109 |
号番号(no) |
no.404 |
ページ範囲 |
pp.37-40 |
ページ数 |
4 |
発行日 |
2010-01-21 (EID) |