お知らせ 2023年度・2024年度 学生員 会費割引キャンペーン実施中です
お知らせ 技術研究報告と和文論文誌Cの同時投稿施策(掲載料1割引き)について
お知らせ 電子情報通信学会における研究会開催について
お知らせ NEW 参加費の返金について
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
講演論文 詳細
技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
 トップに戻る 前のページに戻る   [Japanese] / [English] 

講演抄録/キーワード
講演名 2010-01-14 13:00
[招待講演]高性能ZnO系FETの開発 ~ デバイス応用と高周波特性 ~
佐々誠彦小池一歩前元利彦矢野満明井上正崇阪工大ED2009-184 MW2009-167 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2009-184 MW2009-167
抄録 (和) 酸化亜鉛(ZnO)は低温成膜が可能なワイドギャップ半導体で、ガラス基板上にスパッタ法などで多結晶膜を形成し、トランジスタを作製することが可能なため、将来、様々なデバイス応用が期待できる。ZnO系FETの潜在的な性能評価のため、MBE成膜した単結晶ヘテロ構造でFETを試作し、そのDCおよび高周波特性について評価した結果について述べる。さらに、センサーなどへの応用、スパッタ法など他の成膜方法で作製したデバイスの特性についても報告する。 
(英) Zinc Oxide (ZnO) has various advantages over other wide gap semiconductors. In order to evaluate its material feasibility, we exploited the device performance using heterostructure FETs for both DC and microwave characteristics. As one of the possible applications for ZnO-based FETs, we report on an implementation to bio-sensing devices.
キーワード (和) 酸化亜鉛 / FET / センサー / MBE / スパッタ / / /  
(英) ZnO / FET / sensor / MBE / sputtering / / /  
文献情報 信学技報, vol. 109, no. 360, ED2009-184, pp. 55-60, 2010年1月.
資料番号 ED2009-184 
発行日 2010-01-06 (ED, MW) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード ED2009-184 MW2009-167 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2009-184 MW2009-167

研究会情報
研究会 ED MW  
開催期間 2010-01-13 - 2010-01-15 
開催地(和) 機械振興会館 
開催地(英) Kikai-Shinko-Kaikan Bldg 
テーマ(和) 化合物半導体デバイスおよび超高周波デバイス/一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 ED 
会議コード 2010-01-ED-MW 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 高性能ZnO系FETの開発 
サブタイトル(和) デバイス応用と高周波特性 
タイトル(英) Development of high-performance ZnO-based FETs 
サブタイトル(英) Device applications and microwave performance 
キーワード(1)(和/英) 酸化亜鉛 / ZnO  
キーワード(2)(和/英) FET / FET  
キーワード(3)(和/英) センサー / sensor  
キーワード(4)(和/英) MBE / MBE  
キーワード(5)(和/英) スパッタ / sputtering  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 佐々 誠彦 / Shigehiko Sasa / ササ シゲヒコ
第1著者 所属(和/英) 大阪工業大学 (略称: 阪工大)
Osaka Institute of Technology (略称: Osaka Inst. of Tech.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 小池 一歩 / Kazuto Koike / コイケ カズト
第2著者 所属(和/英) 大阪工業大学 (略称: 阪工大)
Osaka Institute of Technology (略称: Osaka Inst. of Tech.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 前元 利彦 / Toshihiko Maemoto / マエモト トシヒコ
第3著者 所属(和/英) 大阪工業大学 (略称: 阪工大)
Osaka Institute of Technology (略称: Osaka Inst. of Tech.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 矢野 満明 / Mitsuaki Yano / ヤノ ミツアキ
第4著者 所属(和/英) 大阪工業大学 (略称: 阪工大)
Osaka Institute of Technology (略称: Osaka Inst. of Tech.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 井上 正崇 / Masataka Inoue / イノウエ マサタカ
第5著者 所属(和/英) 大阪工業大学 (略称: 阪工大)
Osaka Institute of Technology (略称: Osaka Inst. of Tech.)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第6著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第7著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第8著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第9著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第10著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第11著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第12著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第13著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第14著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第15著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第16著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第17著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第18著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第19著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第19著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第20著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
講演者 第1著者 
発表日時 2010-01-14 13:00:00 
発表時間 40分 
申込先研究会 ED 
資料番号 ED2009-184, MW2009-167 
巻番号(vol) vol.109 
号番号(no) no.360(ED), no.361(MW) 
ページ範囲 pp.55-60 
ページ数
発行日 2010-01-06 (ED, MW) 


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会