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講演抄録/キーワード
講演名 2009-12-11 09:00
MgO単結晶基板上に形成したエピタキシャルCo薄膜の構造解析
額賀友理大竹 充藪原 穣中大)・桐野文良東京藝術大)・二本正昭中大MR2009-44 エレソ技報アーカイブへのリンク:MR2009-44
抄録 (和) 超高真空分子線エピタキシー法を用いてMgO単結晶基板上にCo薄膜を形成し,基板結晶方位や基板温度がエピタキシャルCo薄膜の構造に及ぼす効果について調べた.MgO(100)基板上では,基板温度300 ℃以上の場合,hcp構造のエピタキシャルCo(11-20)双結晶薄膜が形成され,基板温度100 ℃では,hcp(11-20)結晶に加えfcc(100)結晶が混在した複合的なエピタキシャル薄膜が得られた.MgO(110)基板上では,fcc-Co(110)単結晶薄膜が得られた.MgO(111)基板上では,hcp(0001)およびfcc(111)結晶から構成される最密充填面配向Co薄膜がエピタキシャル成長した.基板温度の上昇に伴い,hcp(0001)結晶が増加し,fcc(111)結晶が減少する傾向が認められた.高分解能透過型電子顕微鏡法により,Co/MgO界面のCo膜中にミスフィット転位が存在していることが観察された.ミスフィット転位の導入により,界面における格子不整合歪が緩和されているものと解釈された. 
(英) Co epitaxial thin films were prepared on MgO substrates of (100), (110), and (111) planes by molecular beam epitaxy. The nucleation of Co crystal on MgO substrate varies depending on the substrate orientation and the substrate temperature. On MgO(100) substrates, Co(11-20) epitaxial bi-crystalline films with hcp structure are obtained at temperatures higher than 300 C, whereas a Co epitaxial film prepared at 100 C includes fcc(100) crystal in addition to hcp(11-20) crystal. Co(110)fcc single-crystal films with fcc structure are formed on MgO(110) substrates. Co films consisting of fcc(111) and hcp(0001) crystals epitaxially grow on MgO(111) substrates. With increasing the substrate temperature, the volume ratio of hcp(0001) crystal increases, whereas that of fcc(111) crystal decreases. High-resolution transmission electron microscopy shows that atomically sharp boundaries are formed between the Co films and the MgO substrates, where misfit dislocations are preferentially introduced in the films at the interfaces. The presence of such dislocations relieves the strain caused by the lattice mismatches between the films and the substrates.
キーワード (和) Co薄膜 / MgO単結晶基板 / エピタキシャル成長 / 分子線エピタキシー / 透過型電子顕微鏡 / / /  
(英) Co Thin Film / MgO Single-Crystal Substrate / Epitaxial Growth / MBE / TEM / / /  
文献情報 信学技報, vol. 109, 2009年12月.
資料番号  
発行日 2009-12-03 (MR) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード MR2009-44 エレソ技報アーカイブへのリンク:MR2009-44

研究会情報
研究会 ITE-MMS MRIS  
開催期間 2009-12-10 - 2009-12-11 
開催地(和) 愛媛大学 工学部 
開催地(英) Ehime Univ. 
テーマ(和) 信号処理および一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 MRIS 
会議コード 2009-12-MMS-MR 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) MgO単結晶基板上に形成したエピタキシャルCo薄膜の構造解析 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Analysis of Co Epitaxial Thin Films Grown on MgO Single-Crystal Substrates 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) Co薄膜 / Co Thin Film  
キーワード(2)(和/英) MgO単結晶基板 / MgO Single-Crystal Substrate  
キーワード(3)(和/英) エピタキシャル成長 / Epitaxial Growth  
キーワード(4)(和/英) 分子線エピタキシー / MBE  
キーワード(5)(和/英) 透過型電子顕微鏡 / TEM  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 額賀 友理 / Yuri Nukaga / ヌカガ ユリ
第1著者 所属(和/英) 中央大学理工学部 (略称: 中大)
Chuo University (略称: Chuo Univ)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 大竹 充 / Mitsuru Ohtake / オオタケ ミツル
第2著者 所属(和/英) 中央大学理工学部 (略称: 中大)
Chuo University (略称: Chuo Univ)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 藪原 穣 / Osamu Yabuhara / ヤブハラ オサム
第3著者 所属(和/英) 中央大学理工学部 (略称: 中大)
Chuo University (略称: Chuo Univ)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 桐野 文良 / Fumiyoshi Kirino / キリノ フミヨシ
第4著者 所属(和/英) 東京藝術大学大学院美術研究科 (略称: 東京藝術大)
Tokyo National University of Fine Arts and Music (略称: Tokyo National Univ. of Fine Arts and Music)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 二本 正昭 / Masaaki Futamoto / フタモト マサアキ
第5著者 所属(和/英) 中央大学理工学部 (略称: 中大)
Chuo University (略称: Chuo Univ)
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講演者 第1著者 
発表日時 2009-12-11 09:00:00 
発表時間 30分 
申込先研究会 MRIS 
資料番号 MR2009-44 
巻番号(vol) vol.109 
号番号(no) no.328 
ページ範囲 pp.51-58 
ページ数
発行日 2009-12-03 (MR) 


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