電子情報通信学会 研究会発表申込システム
講演論文 詳細
技報閲覧サービス
技報オンライン
‥‥ (ESS/通ソ/エレソ/ISS)
技報アーカイブ
‥‥ (エレソ/通ソ)
 トップに戻る 前のページに戻る   [Japanese] / [English] 

講演抄録/キーワード
講演名 2009-11-19 10:50
Study of the Main Factors Affecting the Potential Distribution for Porcelain Zinc Oxide Arresters
Xingwen LiQian WangMingzhe RongYi WuXi'an Jiaotong Univ.エレソ技報アーカイブへのリンク:EMD2009-73
抄録 (和) The potential distribution is calculated with finite element method for one 500 kV porcelain ZnO arrester, the validation of which is verified by measuring the potential distribution of the arrester using the optical fiber-current measurement method. Then the influences of the size of calculation boundary, the parameters of grading ring and the mounting height on potential distribution are analyzed. It demonstrates that to the 500 kV arrester, the existence of the lower grading ring has more significant influence on the potential distribution, and the voltage potential distribution coefficient of the upper and lower sections could be improved effectively through increasing the mounting height; the mounting height hardly affects the voltage potential distribution coefficient to the 110kV and 220kV arresters. 
(英) The potential distribution is calculated with finite element method for one 500 kV porcelain ZnO arrester, the validation of which is verified by measuring the potential distribution of the arrester using the optical fiber-current measurement method. Then the influences of the size of calculation boundary, the parameters of grading ring and the mounting height on potential distribution are analyzed. It demonstrates that to the 500 kV arrester, the existence of the lower grading ring has more significant influence on the potential distribution, and the voltage potential distribution coefficient of the upper and lower sections could be improved effectively through increasing the mounting height; the mounting height hardly affects the voltage potential distribution coefficient to the 110kV and 220kV arresters.
キーワード (和) ZnO arrester / Finite element method / Potential distribution / Mounting height / Grading ring / / /  
(英) ZnO arrester / Finite element method / Potential distribution / Mounting height / Grading ring / / /  
文献情報 信学技報, vol. 109, no. 287, EMD2009-73, pp. 17-20, 2009年11月.
資料番号 EMD2009-73 
発行日 2009-11-12 (EMD) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)

研究会情報
研究会 EMD  
開催期間 2009-11-19 - 2009-11-20 
開催地(和) 日本工業大学 神田キャンパス 
開催地(英) Nippon Institute of Technology, Kanda Campus, Tokyo, Japan 
テーマ(和) IS-EMD2009 (機構デバイス研究会 第9回国際セッション) 
テーマ(英) IS-EMD2009 (9th International Session on Electro-Mechanical Devices) 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 EMD 
会議コード 2009-11-EMD 
本文の言語 英語 
タイトル(和)  
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Study of the Main Factors Affecting the Potential Distribution for Porcelain Zinc Oxide Arresters 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) ZnO arrester / ZnO arrester  
キーワード(2)(和/英) Finite element method / Finite element method  
キーワード(3)(和/英) Potential distribution / Potential distribution  
キーワード(4)(和/英) Mounting height / Mounting height  
キーワード(5)(和/英) Grading ring / Grading ring  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) Xingwen Li / Xingwen Li /
第1著者 所属(和/英) Xi'an Jiatong University (略称: Xi'an Jiaotong Univ.)
Xi'an Jiatong University (略称: Xi'an Jiaotong Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) Qian Wang / Qian Wang /
第2著者 所属(和/英) Xi'an Jiatong University (略称: Xi'an Jiaotong Univ.)
Xi'an Jiatong University (略称: Xi'an Jiaotong Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) Mingzhe Rong / Mingzhe Rong /
第3著者 所属(和/英) Xi'an Jiatong University (略称: Xi'an Jiaotong Univ.)
Xi'an Jiatong University (略称: Xi'an Jiaotong Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) Yi Wu / Yi Wu /
第4著者 所属(和/英) Xi'an Jiatong University (略称: Xi'an Jiaotong Univ.)
Xi'an Jiatong University (略称: Xi'an Jiaotong Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第5著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第6著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第7著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第8著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第9著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第10著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第11著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第12著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第13著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第14著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第15著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第16著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第17著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第18著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第19著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第19著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第20著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
講演者
発表日時 2009-11-19 10:50:00 
発表時間 20 
申込先研究会 EMD 
資料番号 IEICE-EMD2009-73 
巻番号(vol) IEICE-109 
号番号(no) no.287 
ページ範囲 pp.17-20 
ページ数 IEICE-4 
発行日 IEICE-EMD-2009-11-12 


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会