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講演抄録/キーワード
講演名 2009-10-30 11:30
ヒートガスアニールによるガラス基板上の非晶質シリコン薄膜の結晶化
田主裕一朗河野陽輔黒木伸一郎小谷光司東北大)・村 直美山上公久古村雄二フィルテック)・伊藤隆司東北大エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2009-128
抄録 (和) ガラス基板上の非晶質シリコン薄膜の結晶化のための新たな手法としてヒートガスアニール法を提案し実証した。ヒートガスアニール法は高温に加熱したガスを非晶質シリコン薄膜表面に吹き付けて結晶化させる手法で、高価な装置や真空チャンバが不要であるため低コスト化が可能なアニール法である。温度750-800℃、時間10秒から10分のヒートガスアニールによりガラス基板上の非晶質シリコン薄膜を結晶化し、ラマン測定によって結晶化した多結晶シリコン薄膜の結晶性を評価した。さらにAFM測定により多結晶シリコンのグレインサイズを評価し、ヒートガスアニール法による多結晶シリコン薄膜は炉アニールによるものと同サイズのグレインを持つことを示した。 
(英) For a new novel method to crystallize amorphous silicon films on glass substrate, heated gas beam annealing method is proposed and investigated. The heated gas beam annealing is a method for crystallization of amorphous silicon by blowing heated gas to surface of amorphous silicon thin films. The heated gas beam annealing is a low-cost method because it does not use rich equipment or a vacuum chamber. Polycrystalline silicon (Poly-Si) films on glass substrate annealed by heated gas beam at 750-800℃ for between 10 s and 10 min is characterized by Raman spectroscopy and atomic force microscope. The poly-Si films annealed by heated gas beam have the same crystallinity of that annealed by conventional furnace.
キーワード (和) ヒートガスアニール / 非晶質シリコン薄膜の結晶化 / ガラス基板 / 低コスト / ラマン測定 / グレインサイズ / /  
(英) Heated Gas Beam Annealing / Crystallization of Amorphous Silicon Thin Films / Glass Substrate / Low Cost / Raman Spectroscopy / Grain Size / /  
文献情報 信学技報, vol. 109, no. 257, SDM2009-128, pp. 47-50, 2009年10月.
資料番号 SDM2009-128 
発行日 2009-10-22 (SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380
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研究会情報
研究会 SDM  
開催期間 2009-10-29 - 2009-10-30 
開催地(和) 東北大学 
開催地(英) Tohoku University 
テーマ(和) プロセス科学と新プロセス技術 
テーマ(英) Semiconductor process science and new technology 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SDM 
会議コード 2009-10-SDM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) ヒートガスアニールによるガラス基板上の非晶質シリコン薄膜の結晶化 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Crystallization of Amorphous Silicon Films on Glass Substrate by Heated Gas Beam Annealing 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) ヒートガスアニール / Heated Gas Beam Annealing  
キーワード(2)(和/英) 非晶質シリコン薄膜の結晶化 / Crystallization of Amorphous Silicon Thin Films  
キーワード(3)(和/英) ガラス基板 / Glass Substrate  
キーワード(4)(和/英) 低コスト / Low Cost  
キーワード(5)(和/英) ラマン測定 / Raman Spectroscopy  
キーワード(6)(和/英) グレインサイズ / Grain Size  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 田主 裕一朗 / Yuichiro Tanushi / タヌシ ユウイチロウ
第1著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 河野 陽輔 / Yosuke Kawano / カワノ ヨウスケ
第2著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 黒木 伸一郎 / Shin-Ichiro Kuroki / クロキ シンイチロウ
第3著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 小谷 光司 / Koji Kotani / コタニ コウジ
第4著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 村 直美 / Naomi Mura / ムラ ナオミ
第5著者 所属(和/英) 株式会社 フィルテック (略称: フィルテック)
Philtech Inc. (略称: Philtech Inc.)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 山上 公久 / Kimihisa Yamakami / ヤマカミ キミヒサ
第6著者 所属(和/英) 株式会社 フィルテック (略称: フィルテック)
Philtech Inc. (略称: Philtech Inc.)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 古村 雄二 / Yuji Furumura / フルムラ ユウジ
第7著者 所属(和/英) 株式会社 フィルテック (略称: フィルテック)
Philtech Inc. (略称: Philtech Inc.)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) 伊藤 隆司 / Takashi Ito / イトウ タカシ
第8著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ)
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講演者
発表日時 2009-10-30 11:30:00 
発表時間 30 
申込先研究会 SDM 
資料番号 IEICE-SDM2009-128 
巻番号(vol) IEICE-109 
号番号(no) no.257 
ページ範囲 pp.47-50 
ページ数 IEICE-4 
発行日 IEICE-SDM-2009-10-22 


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