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講演抄録/キーワード
講演名 2009-10-30 13:55
Ag薄膜の摩擦配向現象と配向パターン実現の可能性
後藤 実宇部高専)・秋本晃一名大)・仙波伸也宇部高専EMD2009-61 エレソ技報アーカイブへのリンク:EMD2009-61
抄録 (和) 超高真空中において平均膜厚2.5~50nmの多結晶Ag膜を平滑なダイヤモンド球面で摩擦したときに生じる摩擦配向現象を反射高速電子線回折で観察し,平均膜厚と結晶配向性変化を放射光によるX線回折によって詳細に調査し,摩擦配向現象が生じる限界膜厚を明らかにした.次に,摩擦配向したAg薄膜表面を新たな薄膜成長基盤とし,その上に成長させたAg薄膜の膜厚と配向性変化の関係を明らかにした.最後に,摩擦界面現象によってAg薄膜成膜基板上に種々の形状のパターンを描画し,摩擦界面現象を利用した完全にドライプロセスによって金属ナノ薄膜結晶配向パターン創製プロセスが実現しうる可能性を示した. 
(英) The orientation change of polycrystalline Ag films with a thickness ranging from 2.5 nm to 50 nm have been studied using ultrahigh vacuum (UHV) tribometer and synchrotron orbital radiated X-ray diffraction, to clarify the crystal orientation change of the film due to mechanical rubbing process, i.e. tribo-assisted reorientation. The reorientation phenomenon occurred specifically when the film thickness became thinner than 10 nm, under the normal load of 250 mN and a sliding speed of 1.0 mm/s. The orientational degree of Ag films on the reoriented region have been defined to clarify the contrast pattern by diffractive X-rays due to the difference between Ag film grown on reoriented region and that on the initial Ag film. We also demonstrate the possibility of a novel patterning technique which is made by tribological process.
キーワード (和) トライボロジー / 銀薄膜 / 配向 / ナノメートル / 超高真空 / パターン / /  
(英) Tribology / Silver film / Orientation / Nanometer / Ultrahigh vacuum / Pattern / /  
文献情報 信学技報, vol. 109, no. 263, EMD2009-61, pp. 13-18, 2009年10月.
資料番号 EMD2009-61 
発行日 2009-10-23 (EMD) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード EMD2009-61 エレソ技報アーカイブへのリンク:EMD2009-61

研究会情報
研究会 EMD  
開催期間 2009-10-30 - 2009-10-30 
開催地(和) 富士通川崎工場 岡田記念ホール 
開催地(英)  
テーマ(和) トライボロジー/一般 (共催:日本トライボロジー学会固体潤滑研究会,および継電器・コンタクトテクノロジー研究会) 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 EMD 
会議コード 2009-10-EMD 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) Ag薄膜の摩擦配向現象と配向パターン実現の可能性 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) IEICE Word Template (Title) 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) トライボロジー / Tribology  
キーワード(2)(和/英) 銀薄膜 / Silver film  
キーワード(3)(和/英) 配向 / Orientation  
キーワード(4)(和/英) ナノメートル / Nanometer  
キーワード(5)(和/英) 超高真空 / Ultrahigh vacuum  
キーワード(6)(和/英) パターン / Pattern  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 後藤 実 / Minoru Goto / ゴトウ ミノル
第1著者 所属(和/英) 宇部工業高等専門学校 (略称: 宇部高専)
Ube National College of Technology (略称: Ube National Coll. of Tech.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 秋本 晃一 / Koichi Akimoto / アキモト コウイチ
第2著者 所属(和/英) 名古屋大学 (略称: 名大)
Nagoya University (略称: Nagoya Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 仙波 伸也 / Shinya Senba / センバ シンヤ
第3著者 所属(和/英) 宇部工業高等専門学校 (略称: 宇部高専)
Ube National College of Technology (略称: Ube National Coll. of Tech.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2009-10-30 13:55:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 EMD 
資料番号 EMD2009-61 
巻番号(vol) vol.109 
号番号(no) no.263 
ページ範囲 pp.13-18 
ページ数
発行日 2009-10-23 (EMD) 


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