講演抄録/キーワード |
講演名 |
2009-08-11 09:50
超構造薄膜光導波路の形成と特性 ○笠原 慧・宇野武彦(神奈川工科大)・野毛 悟(沼津高専) CPM2009-41 エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2009-41 |
抄録 |
(和) |
シリカをベースとして、Ge, Ti, Snをドープしたナノ薄層の周期構造薄膜(超構造薄膜)において、紫外光励起による可視ルミネセンスが観測され、これを利用した光の増幅の可能性がある。超構造薄膜を光デバイス化するには、光導波路の形成が必要である。シリコンや石英基板あるいはLiNbO3などの基板上に、超構造薄膜光導波路を形成する検討を行い、基本的な形成条件が明らかになった。また、この導波路により微弱ながら、光が増幅されることを確認した。 |
(英) |
We previously reported UV induced visible light luminescence in artificial-lattice thin films of ion doped silica glass (silica superstructure thin films). This report presents fabrication technique of optical-waveguide superstructure thin films on Si, SiO2 and LiNbO3 substrates. UV induced luminescence and optical-amplification at 405 nm were observed in the waveguides fabricated on Si substrates. |
キーワード |
(和) |
シリカ / 超構造, / 発光 / 光増幅 / 導波路 / / / |
(英) |
silica / superstructure / luminescence / optical-amplification / optical-waveguide / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 109, no. 171, CPM2009-41, pp. 41-45, 2009年8月. |
資料番号 |
CPM2009-41 |
発行日 |
2009-08-03 (CPM) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
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