研究会情報 |
研究会 |
SDM ED |
開催期間 |
2009-06-24 - 2009-06-26 |
開催地(和) |
海雲台グランドホテル(釜山、韓国) |
開催地(英) |
Haeundae Grand Hotel, Busan, Korea |
テーマ(和) |
第17回先端半導体デバイスの基礎と応用に関するアジア・太平洋ワークショップ(AWAD2009) |
テーマ(英) |
2009 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices |
講演論文情報の詳細 |
申込み研究会 |
ED |
会議コード |
2009-06-SDM-ED |
本文の言語 |
英語 |
タイトル(和) |
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サブタイトル(和) |
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タイトル(英) |
Fabrication of Silicon nanowire FET using transfer technology |
サブタイトル(英) |
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キーワード(1)(和/英) |
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キーワード(2)(和/英) |
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キーワード(3)(和/英) |
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キーワード(4)(和/英) |
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キーワード(5)(和/英) |
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キーワード(6)(和/英) |
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キーワード(7)(和/英) |
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キーワード(8)(和/英) |
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
W. H. Kim / W. H. Kim / |
第1著者 所属(和/英) |
Korea Electronics Technology Institute (略称: Korea Electronics Technology Institute)
Korea Electronics Technology Institute (略称: Korea Electronics Technology Institute) |
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第2著者 所属(和/英) |
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第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第3著者 所属(和/英) |
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第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第6著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第7著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第8著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第9著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第9著者 所属(和/英) |
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第10著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第10著者 所属(和/英) |
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第11著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第12著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第13著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第14著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第15著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第16著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第17著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第18著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第19著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第20著者 所属(和/英) |
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講演者 |
第1著者 |
発表日時 |
2009-06-26 11:30:00 |
発表時間 |
15分 |
申込先研究会 |
ED |
資料番号 |
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巻番号(vol) |
vol.109 |
号番号(no) |
no.97(ED), no.98(SDM) |
ページ範囲 |
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ページ数 |
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発行日 |
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