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講演抄録/キーワード
講演名
2009-06-19 10:50
GeO2/Ge界面形成の物理と電気特性改善技術
○
渡部平司
・
齊藤真里奈
・
齊藤正一朗
・
岡本 学
・
朽木克博
・
細井卓治
・
小野倫也
・
志村考功
(
阪大
)
SDM2009-29
エレソ技報アーカイブへのリンク:
SDM2009-29
抄録
(和)
(まだ登録されていません)
(英)
(Not available yet)
キーワード
(和)
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(英)
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文献情報
信学技報, vol. 109, no. 87, SDM2009-29, pp. 15-20, 2009年6月.
資料番号
SDM2009-29
発行日
2009-06-12 (SDM)
ISSN
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
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SDM2009-29
エレソ技報アーカイブへのリンク:
SDM2009-29
研究会情報
研究会
SDM
開催期間
2009-06-19 - 2009-06-19
開催地(和)
東京大学(生産研An棟)
開催地(英)
An401・402 Inst. Indus. Sci., The Univ. of Tokyo
テーマ(和)
ゲート絶縁薄膜、容量膜、機能膜およびメモリ技術(応用物理学会、シリコンテクノロジー分科会、第113研究集会「ゲートスタック研究の進展-Ge系材料を中心に」との合同開催)
テーマ(英)
Science and Technology for Dielectric Thin Films for MIS Devices
講演論文情報の詳細
申込み研究会
SDM
会議コード
2009-06-SDM
本文の言語
日本語
タイトル(和)
GeO2/Ge界面形成の物理と電気特性改善技術
サブタイトル(和)
タイトル(英)
Fundamental Study on GeO2/Ge Interface and its Electrical Properties
サブタイトル(英)
キーワード(1)(和/英)
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キーワード(2)(和/英)
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キーワード(3)(和/英)
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キーワード(4)(和/英)
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キーワード(5)(和/英)
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キーワード(6)(和/英)
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キーワード(7)(和/英)
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キーワード(8)(和/英)
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ)
渡部 平司
/
Heiji Watanabe
/
ワタナベ ヘイジ
第1著者 所属(和/英)
大阪大学
(略称:
阪大
)
Osaka University
(略称:
Osaka Univ.
)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ)
齊藤 真里奈
/
Marina Saito
/
サイトウ マリナ
第2著者 所属(和/英)
大阪大学
(略称:
阪大
)
Osaka University
(略称:
Osaka Univ.
)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ)
齊藤 正一朗
/
Shoichiro Saito
/
サイトウ ショウイチロウ
第3著者 所属(和/英)
大阪大学
(略称:
阪大
)
Osaka University
(略称:
Osaka Univ.
)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ)
岡本 学
/
Gaku Okamoto
/
オカモト ガク
第4著者 所属(和/英)
大阪大学
(略称:
阪大
)
Osaka University
(略称:
Osaka Univ.
)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ)
朽木 克博
/
Katsuhiro Kutsuki
/
クツキ カツヒロ
第5著者 所属(和/英)
大阪大学
(略称:
阪大
)
Osaka University
(略称:
Osaka Univ.
)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ)
細井 卓治
/
Takuji Hosoi
/
ホソイ タクジ
第6著者 所属(和/英)
大阪大学
(略称:
阪大
)
Osaka University
(略称:
Osaka Univ.
)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ)
小野 倫也
/
Tomoya Ono
/
オノ トモヤ
第7著者 所属(和/英)
大阪大学
(略称:
阪大
)
Osaka University
(略称:
Osaka Univ.
)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ)
志村 考功
/
Takayoshi Shimura
/
シムラ タカヨシ
第8著者 所属(和/英)
大阪大学
(略称:
阪大
)
Osaka University
(略称:
Osaka Univ.
)
第9著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第9著者 所属(和/英)
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第10著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第10著者 所属(和/英)
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第11著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第11著者 所属(和/英)
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(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第12著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第13著者 所属(和/英)
(略称: )
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第14著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第14著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第15著者 所属(和/英)
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(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第16著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第17著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第18著者 所属(和/英)
(略称: )
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第19著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第19著者 所属(和/英)
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第20著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
講演者
第1著者
発表日時
2009-06-19 10:50:00
発表時間
30分
申込先研究会
SDM
資料番号
SDM2009-29
巻番号(vol)
vol.109
号番号(no)
no.87
ページ範囲
pp.15-20
ページ数
6
発行日
2009-06-12 (SDM)
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