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講演抄録/キーワード
講演名 2009-03-06 13:50
無機垂直配向膜を用いた液晶の配向制御技術の研究
森田祐介福場優介飯村靖文東京農工大EID2008-85 OME2008-96 エレソ技報アーカイブへのリンク:EID2008-85 OME2008-96
抄録 (和) 現在、液晶プロジェクタ用液晶素子の課題として、耐光性及びコントラストの向上がある。本研究では、垂直配向(VA)モードを用いた高品質なプロジェクタ用液晶素子作製のための垂直配向制御技術の確立を目指し、有機垂直配向膜より耐光性に優れた二種類の無機膜について、液晶の垂直配向特性について調べた。無機膜としては、反応性RFスパッタリング法で作製したSiOx膜及びPBII&D(プラズマベースドイオンインプランテーション&デポジション)法で作製したフッ素化ダイアモンドライクカーボン(F-DLC)膜を検討し、その膜上での液晶の配向特性及び電気的特性を明らかにした。 
(英) Due to recent demands of improving the contrast and brightness in LC projection displays, the vertical alignment display mode with inorganic alignment films has been gradually used in the projection displays. In this study, we mainly focus on the vertical LC alignment control on inorganic films for LC projection displays. Two types of inorganic films of SiOx and F-DLC, which are respectively deposited with a reactive RF sputtering method and a PBII&D method, are characterized using various methods. From the study, we clarify the advantage and disadvantage of using the two inorganic films as vertical alignment layers of LCs
キーワード (和) SiOx / F-DLC / スパッタリング / PBII&D / 液晶 / 垂直配向 / /  
(英) SiOx / F-DLC / sputtering / PBI&D / liquid crystal / vertical alignment / /  
文献情報 信学技報, vol. 108, no. 469, OME2008-96, pp. 13-16, 2009年3月.
資料番号 OME2008-96 
発行日 2009-02-27 (EID, OME) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード EID2008-85 OME2008-96 エレソ技報アーカイブへのリンク:EID2008-85 OME2008-96

研究会情報
研究会 OME EID  
開催期間 2009-03-06 - 2009-03-06 
開催地(和) 機械振興会館 
開催地(英) Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. 
テーマ(和) 発光・表示記録用有機材料およびデバイス・一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 OME 
会議コード 2009-03-OME-EID 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 無機垂直配向膜を用いた液晶の配向制御技術の研究 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Study on Vertical LC Alignment on Inorganic Filmss 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) SiOx / SiOx  
キーワード(2)(和/英) F-DLC / F-DLC  
キーワード(3)(和/英) スパッタリング / sputtering  
キーワード(4)(和/英) PBII&D / PBI&D  
キーワード(5)(和/英) 液晶 / liquid crystal  
キーワード(6)(和/英) 垂直配向 / vertical alignment  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 森田 祐介 / Yusuke Morita / モリタ ユウスケ
第1著者 所属(和/英) 東京農工大学大学院 (略称: 東京農工大)
Faculty of Technology Tokyo University of A&T (略称: Faculty of Tech. Tokyo Univ. of A&T)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 福場 優介 / Yusuke Fukuba / フクバ ユウスケ
第2著者 所属(和/英) 東京農工大学大学院 (略称: 東京農工大)
Faculty of Technology Tokyo University of A&T (略称: Faculty of Tech. Tokyo Univ. of A&T)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 飯村 靖文 / Yasufumi Iimura / イイムラ ヤスフミ
第3著者 所属(和/英) 東京農工大学大学院 (略称: 東京農工大)
Faculty of Technology Tokyo University of A&T (略称: Faculty of Tech. Tokyo Univ. of A&T)
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講演者 第1著者 
発表日時 2009-03-06 13:50:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 OME 
資料番号 EID2008-85, OME2008-96 
巻番号(vol) vol.108 
号番号(no) no.468(EID), no.469(OME) 
ページ範囲 pp.13-16 
ページ数
発行日 2009-02-27 (EID, OME) 


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