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講演抄録/キーワード
講演名 2009-01-29 08:30
位相マスクを用いたブレーズグレーティングの作製
粟津英行京都工繊大)・金高健二産総研)・西尾謙三粟辻安浩裏 升吾京都工繊大)・西井準治産総研PN2008-42 OPE2008-145 LQE2008-142 エレソ技報アーカイブへのリンク:OPE2008-145 LQE2008-142
抄録 (和) 高生産のブレーズグレーティング作製法として,位相マスクによる干渉露光法を検討している.位相マスクで複数の回折光を生成し,空隙を伝搬させた後にフーリエ合成により鋸歯状光強度分布を形成し,レジストを露光する手法である.3$\mu$m周期の鋸歯状光強度分布形成用位相マスクを設計,作製した.電子ビーム直接描画リソグラフィにより$SiO_{2}$基板表面を65nm深さの凹凸に加工して,位相マスクを得た.位相マスク裏面から波長244nmのレーザ光を照射して,凹凸表面から15$\mu$m離れた位置で3$\mu$m周期の鋸歯状光強度分布を確認した.UVレジストを塗布した基板を空隙15$\mu$m介して位相マスクに対向させ設置,露光,現像してレジストに鋸歯形状を作製した. 
(英) A new simple interference exposure method using a phase-shifting mask was discussed on the basis of Fourier synthesis for fabricating blazed gratings. The phase-shifting mask consists of a periodic relief pattern and provides a required phase shift. The phase shifting was designed with 244nm exposure-light wavelength to launch multiple diffraction beams so that the resultant interference pattern formed a 3-$\mu$m-period sawtooth optical-intensity profile. A photoresist was coated on a $SiO_{2}$ substrate. A relief of 65nm height was patterned on the $SiO_{2}$ substrate by electron-beam direct writing lithography. A plane wave was illuminated from the rear side of the phase-shifting mask and a sawtooth-like optical intensity profile was observed after 15$\mu$m propagation. A UV-photoresist layer coated on a substrate was exposed by the sawtooth-like intensity pattern and developed.
キーワード (和) 位相マスク / ブレーズグレーティング / 微細加工技術 / 回折光学素子 / 干渉露光 / 近接場フォトリソグラフィ / /  
(英) Phase-Shifting Mask / Blazed Gratings / Microfabrication Technique / Diffraction Optical Element / Interference Exposure / Near-Field Photolithography / /  
文献情報 信学技報, vol. 108, no. 419, LQE2008-142, pp. 1-6, 2009年1月.
資料番号 LQE2008-142 
発行日 2009-01-22 (PN, OPE, LQE) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
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研究会情報
研究会 PN OPE EMT LQE  
開催期間 2009-01-29 - 2009-01-30 
開催地(和) 京都工芸繊維大学(松ヶ崎キャンパス) 
開催地(英) Kyoto Institute Technology (Matsugasaki Campus) 
テーマ(和) フォトニックNWシステム・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,及び一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 LQE 
会議コード 2009-01-PN-OPE-EMT-LQE 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 位相マスクを用いたブレーズグレーティングの作製 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Fabrication of Blazed Grating by Using Phase-Shifting Mask 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 位相マスク / Phase-Shifting Mask  
キーワード(2)(和/英) ブレーズグレーティング / Blazed Gratings  
キーワード(3)(和/英) 微細加工技術 / Microfabrication Technique  
キーワード(4)(和/英) 回折光学素子 / Diffraction Optical Element  
キーワード(5)(和/英) 干渉露光 / Interference Exposure  
キーワード(6)(和/英) 近接場フォトリソグラフィ / Near-Field Photolithography  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 粟津 英行 / Hideyuki Awazu / アワヅ ヒデユキ
第1著者 所属(和/英) 京都工芸繊維大学 (略称: 京都工繊大)
Kyoto Institute of Technology (略称: Kyoto Inst. Technol.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 金高 健二 / Kenji Kintaka / キンタカ ケンジ
第2著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 西尾 謙三 / Kenzo Nishio / ニシオ ケンゾウ
第3著者 所属(和/英) 京都工芸繊維大学 (略称: 京都工繊大)
Kyoto Institute of Technology (略称: Kyoto Inst. Technol.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 粟辻 安浩 / Yasuhiro Awatsuji / アワツジ ヤスヒロ
第4著者 所属(和/英) 京都工芸繊維大学 (略称: 京都工繊大)
Kyoto Institute of Technology (略称: Kyoto Inst. Technol.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 裏 升吾 / Shogo Ura / ウラ ショウゴ
第5著者 所属(和/英) 京都工芸繊維大学 (略称: 京都工繊大)
Kyoto Institute of Technology (略称: Kyoto Inst. Technol.)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 西井 準治 / Junji Nishii / ニシイ ジュンジ
第6著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
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講演者
発表日時 2009-01-29 08:30:00 
発表時間 25 
申込先研究会 LQE 
資料番号 IEICE-PN2008-42,IEICE-OPE2008-145,IEICE-LQE2008-142 
巻番号(vol) IEICE-108 
号番号(no) no.417(PN), no.418(OPE), no.419(LQE) 
ページ範囲 pp.1-6 
ページ数 IEICE-6 
発行日 IEICE-PN-2009-01-22,IEICE-OPE-2009-01-22,IEICE-LQE-2009-01-22 


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