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講演抄録/キーワード
講演名 2009-01-16 10:00
ボウタイ形金属膜ナノ開口における近接場光の3次元数値解析
伊東宏樹関西大)・何 一偉阪電通大)・小嶋敏孝関西大MR2008-59 エレソ技報アーカイブへのリンク:MR2008-59
抄録 (和) 近年,光ディスク技術において,高密度化が要求されている.しかし,光の回折限界により,現在の光記録方式による記録密度の上限は,短波長を用いた場合でも約Gbit/inch2であると言われている.そこで,光の回折限界の打破を可能とする技術として,光近接場技術が注目されている.
本稿では,近接場光を発生させるボウタイ形金属ナノ開口付近の電界分布の3次元数値解析をFDTD法を用いて行う.なお,本解析では光の波長領域において誘電率が負となる金属媒質を対象とする電磁界解析を行うために,電子の運動方程式を考慮したFDTD法及びPML吸収境界条件を用いる. 
(英) Recently, a density growth is demanded in optical storage technologies. But, It is said that the upper limit of recording density by the current optical recording system is several tens of gigabits per inch square due to the optical diffraction limit even in the case of using a short wavelength. Then, as a technology that enables us to break down the optical diffraction limit, the optical near field technology has gotten a lot of attention.
In this paper, we try to perform three-dimensional numerical analysis of an optical near field distributions in a metallic bow-tie type nano-aperture by using the FDTD method. In the present analysis, the FDTD method combined with the motion equation of electron is applied to a metallic medium whose permittivity can become negative at the optical wavelength range.
キーワード (和) 光近接場 / 光記録 / ナノ開口 / 金属 / FDTD法 / / /  
(英) Optical near field / Optical recording / Nano-aperture / Metal / FDTD method / / /  
文献情報 信学技報, vol. 108, 2009年1月.
資料番号  
発行日 2009-01-08 (MR) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード MR2008-59 エレソ技報アーカイブへのリンク:MR2008-59

研究会情報
研究会 ITE-MMS ITE-CE MRIS  
開催期間 2009-01-15 - 2009-01-16 
開催地(和) パナソニック 松心会館 
開催地(英)  
テーマ(和) 映像情報機器および一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 MRIS 
会議コード 2009-01-MMS-CE-MR 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) ボウタイ形金属膜ナノ開口における近接場光の3次元数値解析 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Three Dimensional Numerical Analysis of Optical Near Field in Bow-tie Type Nano-Aperture of a Metallic Layer 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 光近接場 / Optical near field  
キーワード(2)(和/英) 光記録 / Optical recording  
キーワード(3)(和/英) ナノ開口 / Nano-aperture  
キーワード(4)(和/英) 金属 / Metal  
キーワード(5)(和/英) FDTD法 / FDTD method  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 伊東 宏樹 / Hiroki Ito / イトウ ヒロキ
第1著者 所属(和/英) 関西大学大学院 (略称: 関西大)
Kansai University (略称: Kansai Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 何 一偉 / Yiwei He /
第2著者 所属(和/英) 大阪電気通信大学 (略称: 阪電通大)
Osaka Electro-Communication University (略称: Osaka Electro-Communication Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 小嶋 敏孝 / Toshitaka Kojima / コジマ トシタカ
第3著者 所属(和/英) 関西大学大学院 (略称: 関西大)
Kansai University (略称: Kansai Univ.)
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講演者
発表日時 2009-01-16 10:00:00 
発表時間 30 
申込先研究会 MRIS 
資料番号 IEICE-MR2008-59 
巻番号(vol) IEICE-108 
号番号(no) no.380 
ページ範囲 pp.47-52 
ページ数 IEICE-6 
発行日 IEICE-MR-2009-01-08 


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