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講演抄録/キーワード
講演名 2008-12-19 14:15
スプレーCVD法によるEr2SiO5結晶薄膜の作製と評価
吉澤 純一色秀夫木村忠正電通大OPE2008-139 エレソ技報アーカイブへのリンク:OPE2008-139
抄録 (和) Er2SiO5結晶はシリコンフォトニクスの発光材料として期待されている。ゾルゲル法で作製されたEr2SiO5結晶からこれまでさまざまな特性が示されてきたが、成膜プロセスが煩雑でありデバイスを考慮した厚膜化には長時間掛かるという問題点がある。本研究ではEr2SiO5結晶のシリコンフォトニクス応用を目的として、これまでのEr2SiO5結晶ゾルゲルプロセスを発展させたスプレーCVD(化学気相堆積)法の検討を行なった。スプレー法適用のための原料溶液の調製を行なうとともに、スプレー照射条件を調べた。Er2SiO5非晶質母材をプロセスチャンバ内で一貫形成するとともに、結晶化を行なった結果、PL測定からEr2SiO5結晶の形成が確認された。 
(英) The Er2SiO5 nano-structured crystalline film can be expected to be one of key materials for the silicon photonics. The Er2SiO5 crystalline film that fabricated by sol-gel method indicates various properties, but it has a problem that fabricating process is complicated and needs long time for device fabrication. In order to apply Er2SiO5 crystalline film to the silicon photonics, we are studying spray CVD (chemical vapor deposition) method that is based on the developed fabrication process using sol-gel method. We adjusted a chemical precursor solution for spray CVD method and examined the spraying parameter. We fabricated Er2SiO5 preforms in process chamber consistently, we crystallized the thin film, and then we measured Photoluminescence (PL) and observed Er2SiO5 crystalline film formation.
キーワード (和) シリコンの放射性再結合 / シリコンナノクリスタル / Er-Si-O 結晶 / / / / /  
(英) radiative recombination of silicon / silicon nanocrystal / Er-Si-O crystal / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 108, no. 370, OPE2008-139, pp. 17-22, 2008年12月.
資料番号 OPE2008-139 
発行日 2008-12-12 (OPE) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード OPE2008-139 エレソ技報アーカイブへのリンク:OPE2008-139

研究会情報
研究会 OPE  
開催期間 2008-12-19 - 2008-12-19 
開催地(和) 機械振興会館 
開催地(英) Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. 
テーマ(和) 光パッシブコンポーネント(フィルタ,コネクタ,MEMS)、シリコンフォトニクス、光ファイバ、一般 
テーマ(英) Optical passive components(optical filter, conector, MEMS), Si photonics, Optical fiber, etc 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 OPE 
会議コード 2008-12-OPE 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) スプレーCVD法によるEr2SiO5結晶薄膜の作製と評価 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Fabrication and evaluation of Er2SiO5 crystal thin film by spray CVD method 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) シリコンの放射性再結合 / radiative recombination of silicon  
キーワード(2)(和/英) シリコンナノクリスタル / silicon nanocrystal  
キーワード(3)(和/英) Er-Si-O 結晶 / Er-Si-O crystal  
キーワード(4)(和/英) /  
キーワード(5)(和/英) /  
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キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 吉澤 純 / Jun Yoshizawa / ヨシザワ ジュン
第1著者 所属(和/英) 電気通信大学 (略称: 電通大)
University of Electro-Communications (略称: UEC)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 一色 秀夫 / Hideo Isshiki / イッシキ ヒデオ
第2著者 所属(和/英) 電気通信大学 (略称: 電通大)
University of Electro-Communications (略称: UEC)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 木村 忠正 / Tadamasa Kimura / キムラ タダマサ
第3著者 所属(和/英) 電気通信大学 (略称: 電通大)
University of Electro-Communications (略称: UEC)
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講演者 第1著者 
発表日時 2008-12-19 14:15:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 OPE 
資料番号 OPE2008-139 
巻番号(vol) vol.108 
号番号(no) no.370 
ページ範囲 pp.17-22 
ページ数
発行日 2008-12-12 (OPE) 


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