講演抄録/キーワード |
講演名 |
2008-12-19 14:15
スプレーCVD法によるEr2SiO5結晶薄膜の作製と評価 ○吉澤 純・一色秀夫・木村忠正(電通大) OPE2008-139 エレソ技報アーカイブへのリンク:OPE2008-139 |
抄録 |
(和) |
Er2SiO5結晶はシリコンフォトニクスの発光材料として期待されている。ゾルゲル法で作製されたEr2SiO5結晶からこれまでさまざまな特性が示されてきたが、成膜プロセスが煩雑でありデバイスを考慮した厚膜化には長時間掛かるという問題点がある。本研究ではEr2SiO5結晶のシリコンフォトニクス応用を目的として、これまでのEr2SiO5結晶ゾルゲルプロセスを発展させたスプレーCVD(化学気相堆積)法の検討を行なった。スプレー法適用のための原料溶液の調製を行なうとともに、スプレー照射条件を調べた。Er2SiO5非晶質母材をプロセスチャンバ内で一貫形成するとともに、結晶化を行なった結果、PL測定からEr2SiO5結晶の形成が確認された。 |
(英) |
The Er2SiO5 nano-structured crystalline film can be expected to be one of key materials for the silicon photonics. The Er2SiO5 crystalline film that fabricated by sol-gel method indicates various properties, but it has a problem that fabricating process is complicated and needs long time for device fabrication. In order to apply Er2SiO5 crystalline film to the silicon photonics, we are studying spray CVD (chemical vapor deposition) method that is based on the developed fabrication process using sol-gel method. We adjusted a chemical precursor solution for spray CVD method and examined the spraying parameter. We fabricated Er2SiO5 preforms in process chamber consistently, we crystallized the thin film, and then we measured Photoluminescence (PL) and observed Er2SiO5 crystalline film formation. |
キーワード |
(和) |
シリコンの放射性再結合 / シリコンナノクリスタル / Er-Si-O 結晶 / / / / / |
(英) |
radiative recombination of silicon / silicon nanocrystal / Er-Si-O crystal / / / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 108, no. 370, OPE2008-139, pp. 17-22, 2008年12月. |
資料番号 |
OPE2008-139 |
発行日 |
2008-12-12 (OPE) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
PDFダウンロード |
OPE2008-139 エレソ技報アーカイブへのリンク:OPE2008-139 |
研究会情報 |
研究会 |
OPE |
開催期間 |
2008-12-19 - 2008-12-19 |
開催地(和) |
機械振興会館 |
開催地(英) |
Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. |
テーマ(和) |
光パッシブコンポーネント(フィルタ,コネクタ,MEMS)、シリコンフォトニクス、光ファイバ、一般 |
テーマ(英) |
Optical passive components(optical filter, conector, MEMS), Si photonics, Optical fiber, etc |
講演論文情報の詳細 |
申込み研究会 |
OPE |
会議コード |
2008-12-OPE |
本文の言語 |
日本語 |
タイトル(和) |
スプレーCVD法によるEr2SiO5結晶薄膜の作製と評価 |
サブタイトル(和) |
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タイトル(英) |
Fabrication and evaluation of Er2SiO5 crystal thin film by spray CVD method |
サブタイトル(英) |
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キーワード(1)(和/英) |
シリコンの放射性再結合 / radiative recombination of silicon |
キーワード(2)(和/英) |
シリコンナノクリスタル / silicon nanocrystal |
キーワード(3)(和/英) |
Er-Si-O 結晶 / Er-Si-O crystal |
キーワード(4)(和/英) |
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キーワード(5)(和/英) |
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キーワード(6)(和/英) |
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キーワード(7)(和/英) |
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キーワード(8)(和/英) |
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
吉澤 純 / Jun Yoshizawa / ヨシザワ ジュン |
第1著者 所属(和/英) |
電気通信大学 (略称: 電通大)
University of Electro-Communications (略称: UEC) |
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
一色 秀夫 / Hideo Isshiki / イッシキ ヒデオ |
第2著者 所属(和/英) |
電気通信大学 (略称: 電通大)
University of Electro-Communications (略称: UEC) |
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
木村 忠正 / Tadamasa Kimura / キムラ タダマサ |
第3著者 所属(和/英) |
電気通信大学 (略称: 電通大)
University of Electro-Communications (略称: UEC) |
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第6著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第10著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第11著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第12著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第13著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第14著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第15著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第16著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第18著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第19著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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講演者 |
第1著者 |
発表日時 |
2008-12-19 14:15:00 |
発表時間 |
25分 |
申込先研究会 |
OPE |
資料番号 |
OPE2008-139 |
巻番号(vol) |
vol.108 |
号番号(no) |
no.370 |
ページ範囲 |
pp.17-22 |
ページ数 |
6 |
発行日 |
2008-12-12 (OPE) |