| 電子情報通信学会 研究会発表申込システム 講演論文 詳細 |
技報閲覧サービス [ログイン] 技報アーカイブ |
| トップに戻る | 前のページに戻る | [Japanese] / [English] |
| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2008-12-11 13:00 重合性モノマーと開始剤の共蒸着による高分子薄膜の作製 ○横倉精二（東京農工大）・室山雅和（東京農工大/ソニー）・田中邦明・臼井博明（東京農工大）  OME2008-76 エレソ技報アーカイブへのリンク：OME2008-76 |
|
| 抄録 | （和） | 重合性モノマーと重合開始剤との共蒸着膜に露光・現像を行うことで、高分子薄膜パターンを形成した。本手法を用いることで、蒸着時にメタルマスクを使用せずに材料のパターニングが可能になる。まず、重合性開始剤である4-(Dimethylamino)-benzophenone (DABP)とIRUGACURE907 (IRU)が単独で安定に蒸着できることが判明した。次に、重合性モノマーである2-(9H-carbazol-9-yl)ethylmethacrylate(Car)とDABPまたはIRUを、10：1の等価膜厚比で共蒸着し、マスクを通して露光(355 nm)を行い、THFにて現像を行うと光照射された部分のみが残存した。また、露光・現像によって表面粗さや、膜厚の変化がないことを確認した。さらに、ライン－スペースが10 μmのフォトマスクを用いても良好なパターンが形成された。これにより、重合性モノマーと重合開始剤の共蒸着膜に露光・現像のプロセスを経ることで、有機電子デバイスに有用な微細パターンを持つ高分子薄膜を形成できることが観察された。 |
| （英） | A novel method for preparing patterned polymeric thin films was proposed by means of vapor deposition of a photosensitive layer followed by photopolymerization and development. The photosensitive layers were prepared by coevaporating photoinitiatos of either 4-(Dimethylamino)-benzophenone or IRUGACURE907 with a functional monomer of 2-(9H-carbazol-9-yl)ethylmethacrylate.. It was confirmed that the photoinitiator can be vapor deposited without decomposition. UV irradiation to the coevaporated layer through a photomask initiated radical polymerization, leaving a negative pattern of the irradiated region after immersing into THF. The photopatterning process was found to give no damage to the film morphology and thickness. This method is significant as a new technoque for patterning polymer films without using the shadow mask for vapordeposition. | |
| キーワード | （和） | 蒸着重合 / リソグラフィ / ビニル化合物 / パターニング / 有機EL / / / |
| （英） | deposition polymerization / lithography / vinyl monomer / patterning / organic light emitting diode / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 108, no. 348, OME2008-76, pp. 1-5, 2008年12月. | |
| 資料番号 | OME2008-76 | |
| 発行日 | 2008-12-04 (OME) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | OME2008-76 エレソ技報アーカイブへのリンク：OME2008-76 |
|
| 研究会情報 | |
| 研究会 | OME |
| 開催期間 | 2008-12-11 - 2008-12-11 |
| 開催地（和） | 機械振興会館 |
| 開催地（英） | Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. |
| テーマ（和） | 有機材料・一般 |
| テーマ（英） | Organic Electronics, Materials, etc. |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | OME |
| 会議コード | 2008-12-OME |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 重合性モノマーと開始剤の共蒸着による高分子薄膜の作製 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Polymeric film deposition by coevaporation of polymerizable monomer and initiator |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 蒸着重合 / deposition polymerization |
| キーワード(2)（和/英） | リソグラフィ / lithography |
| キーワード(3)（和/英） | ビニル化合物 / vinyl monomer |
| キーワード(4)（和/英） | パターニング / patterning |
| キーワード(5)（和/英） | 有機EL / organic light emitting diode |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 横倉 精二 / Seiji Yokokura / ヨコクラ セイジ |
| 第1著者 所属（和/英） | 東京農工大学 (略称： 東京農工大) Tokyo University of Agriculture and Technology (略称： Tokyo Univ. of Agriculture) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 室山 雅和 / Masakazu Muroyama / ムロヤマ マサカズ |
| 第2著者 所属（和/英） | ソニー株式会社先端マテリアル研究所 (略称： 東京農工大/ソニー) SONY Corporation, Advanced Material Laboratory (略称： SONY Advanced Material Lab) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 田中 邦明 / Kuniaki Tanaka / タナカ クニアキ |
| 第3著者 所属（和/英） | 東京農工大学 (略称： 東京農工大) Tokyo University of Agriculture and Technology (略称： Tokyo Univ. of Agriculture) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 臼井 博明 / Hiroaki Usui / ウスイ ヒロアキ |
| 第4著者 所属（和/英） | 東京農工大学 (略称： 東京農工大) Tokyo University of Agriculture and Technology (略称： Tokyo Univ. of Agriculture) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第5著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第6著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第7著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第8著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第8著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第9著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第9著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第10著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第10著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第11著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第11著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第12著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第12著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第13著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第13著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第14著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第14著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第15著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第15著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第16著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第16著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第17著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第17著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第18著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第18著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2008-12-11 13:00:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | OME |
| 資料番号 | OME2008-76 |
| 巻番号（vol） | vol.108 |
| 号番号（no） | no.348 |
| ページ範囲 | pp.1-5 |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | 2008-12-04 (OME) |
[研究会発表申込システムのトップページに戻る]