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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2008-12-05 11:30 アンジュレータ光源を使用した軟X線励起によるa-Si膜表面のSi原子移動 高梨泰幸・部家 彰・○松尾直人・神田一浩（兵庫県立大）  SDM2008-187 エレソ技報アーカイブへのリンク：SDM2008-187 |
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| 抄録 | （和） | アンジュレータ光源から発生した軟X線をa-Si膜(膜厚1, 50nm)に照射したときの特性変化を検討した．照射前後で表面粗さRaは0.63 nmから1.70 nmへ変化した．これに対応して電気抵抗値も増加した．膜厚が薄い場合，単位原子当たりの光の吸収量が大きい．フォトンによるSi原子の振動励起がトリガーとなり，膜厚方向へ働く力が大きくなる．Si原子の移動が連続的に生じ凝集現象が起き，表面形状が変化したと考えられる． |
| （英） | We investigated the characteristics of a-Si film with thicknesses of 1 and 50 nm those were irradiated by soft X-ray from the undulator source. The average roughness Ra of 1nm-thick-Si film were changed from 0.63 to 1.7nm by soft X-ray irradiation. The cohesion of Si atoms were observed. The electric resistivity of it also increased corresponding to the change of the surface roughness. The X-ray absorption rate of thin Si film becomes larger than the thick film. Because the phonon excitation of Si atoms by X-ray absorption becomes remarkable, the perpendicular force worked to Si atoms increases. This causes the cohesion of Si atoms at the surface. | |
| キーワード | （和） | アモルファスSi / 軟X線 / アンジュレータ / 凝集 / 振動励起 / / / |
| （英） | a-Si / soft X-ray / undulator / cohesion / phonon excitation / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 108, no. 335, SDM2008-187, pp. 17-20, 2008年12月. | |
| 資料番号 | SDM2008-187 | |
| 発行日 | 2008-11-28 (SDM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | SDM2008-187 エレソ技報アーカイブへのリンク：SDM2008-187 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
| 開催期間 | 2008-12-05 - 2008-12-05 |
| 開催地（和） | 京都大学桂キャンパスA1-001 |
| 開催地（英） | Kyoto University, Katsura Campus, A1-001 |
| テーマ（和） | シリコン関連材料の作製と評価 |
| テーマ（英） | Fabrication and Characterization of Si and Si-related Materials and Devices |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | SDM |
| 会議コード | 2008-12-SDM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | アンジュレータ光源を使用した軟X線励起によるa-Si膜表面のSi原子移動 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Si atom movement in a-Si film by soft X-ray excitation using undulator source |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | アモルファスSi / a-Si |
| キーワード(2)（和/英） | 軟X線 / soft X-ray |
| キーワード(3)（和/英） | アンジュレータ / undulator |
| キーワード(4)（和/英） | 凝集 / cohesion |
| キーワード(5)（和/英） | 振動励起 / phonon excitation |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 高梨 泰幸 / Yasuyuki Takanashi / タカナシ ヤスユキ |
| 第1著者 所属（和/英） | 兵庫県立大学 (略称： 兵庫県立大) University of Hyogo (略称： Univ. of Hyogo) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 部家 彰 / Akira Heya / ヘヤ アキラ |
| 第2著者 所属（和/英） | 兵庫県立大学 (略称： 兵庫県立大) University of Hyogo (略称： Univ. of Hyogo) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 松尾 直人 / Naoto Matsuo / マツオ ナオト |
| 第3著者 所属（和/英） | 兵庫県立大学 (略称： 兵庫県立大) University of Hyogo (略称： Univ. of Hyogo) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 神田 一浩 / Kazuhiro Kanda / カンダ カズヒロ |
| 第4著者 所属（和/英） | 兵庫県立大学 (略称： 兵庫県立大) University of Hyogo (略称： Univ. of Hyogo) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
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| 講演者 | 第3著者 |
| 発表日時 | 2008-12-05 11:30:00 |
| 発表時間 | 20分 |
| 申込先研究会 | SDM |
| 資料番号 | SDM2008-187 |
| 巻番号（vol） | vol.108 |
| 号番号（no） | no.335 |
| ページ範囲 | pp.17-20 |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2008-11-28 (SDM) |
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