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講演抄録/キーワード
講演名 2008-11-28 09:25
MOVPE法によるAlGaN結晶成長の熱流体計算解析
平子 晃市川晶也中村健一大川和宏東京理科大ED2008-170 CPM2008-119 LQE2008-114 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2008-170 CPM2008-119 LQE2008-114
抄録 (和) 我々はこれまでにGaNおよびAlNのMOVPE法における反応過程を熱化学流体計算で解析してきた。AlN成長では原料の急激な気相反応が成長を阻害することが判り、今回は同様の問題が考えられるAlGaN結晶に関して成長圧力が10~100 kPaにおける反応過程を熱化学流体計算により解析した。100 kPaでは原料であるトリメチルガリウム(TMGa)、トリメチルアルミニウム(TMAl)およびアンモニア(NH3)が結晶成長に至る前に急激な気相反応を起こしていることが計算結果から判り、実際の実験においてもAlGaN成長が困難であった。一方、10 kPaの減圧下では原料分子間の衝突頻度が減少して気相反応を抑制できている様子が計算から得られ、AlGaN成膜が容易である状況を解析できた。 
(英) We have reported analysis of reaction pathways in metalorganic vapor-phase epitaxy (MOVPE) of GaN and AlN films by using computational fluid dynamics (CFD) simulations considering radiative heat transfer. AlGaN MOVPE growths are calculated at various reactor pressures, 10-100 kPa, in this paper. In the case of 100 kPa, it is found that parasitic reactions occur between TMGa, TMAl and NH3. At low pressure of 10 kPa, parasitic reactions suppress since the collision rate among the gaseous molecules are decreases in the lower pressure.
キーワード (和) AlGaN / MOVPE法 / 流体計算 / / / / /  
(英) AlGaN / MOVPE / Computational Fluid Dynamics / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 108, no. 323, LQE2008-114, pp. 89-92, 2008年11月.
資料番号 LQE2008-114 
発行日 2008-11-20 (ED, CPM, LQE) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード ED2008-170 CPM2008-119 LQE2008-114 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2008-170 CPM2008-119 LQE2008-114

研究会情報
研究会 LQE ED CPM  
開催期間 2008-11-27 - 2008-11-28 
開催地(和) 名古屋工業大学 
開催地(英) Nagoya Institute of Technology 
テーマ(和) 窒化物半導体光・電子デバイス・材料,及び関連技術,及び一般 
テーマ(英) Nitride Based Optical and Electronic Devices, Materials and Related Technologies 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 LQE 
会議コード 2008-11-LQE-ED-CPM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) MOVPE法によるAlGaN結晶成長の熱流体計算解析 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Analysis of AlGaN Growth on MOVPE by Computational Simulation 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) AlGaN / AlGaN  
キーワード(2)(和/英) MOVPE法 / MOVPE  
キーワード(3)(和/英) 流体計算 / Computational Fluid Dynamics  
キーワード(4)(和/英) /  
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キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 平子 晃 / Akira Hirako / ヒラコ アキラ
第1著者 所属(和/英) 東京理科大学 (略称: 東京理科大)
Tokyo University of Science (略称: Tokyo Univ. of Sci.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 市川 晶也 / Masaya Ichikawa / イチカワ マサヤ
第2著者 所属(和/英) 東京理科大学 (略称: 東京理科大)
Tokyo University of Science (略称: Tokyo Univ. of Sci.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 中村 健一 / Kennichi Nakamura / ナカムラ ケンイチ
第3著者 所属(和/英) 東京理科大学 (略称: 東京理科大)
Tokyo University of Science (略称: Tokyo Univ. of Sci.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 大川 和宏 / Kazuhiro Ohkawa / オオカワ カズヒロ
第4著者 所属(和/英) 東京理科大学 (略称: 東京理科大)
Tokyo University of Science (略称: Tokyo Univ. of Sci.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2008-11-28 09:25:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 LQE 
資料番号 ED2008-170, CPM2008-119, LQE2008-114 
巻番号(vol) vol.108 
号番号(no) no.321(ED), no.322(CPM), no.323(LQE) 
ページ範囲 pp.89-92 
ページ数
発行日 2008-11-20 (ED, CPM, LQE) 


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