| 電子情報通信学会 研究会発表申込システム 講演論文 詳細 |
技報閲覧サービス [ログイン] 技報アーカイブ |
| トップに戻る | 前のページに戻る | [Japanese] / [English] |
| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2008-10-31 09:00 Al下地膜上へのSrAl2O4薄膜の剥離抑制の検討 ○張 鋒・纐纈正和・清水英彦・岩野春男・川上貴浩（新潟大）  CPM2008-82 エレソ技報アーカイブへのリンク：CPM2008-82 |
|
| 抄録 | （和） | 本研究では，Al薄膜の上にSrAl2O4薄膜をスパッタ堆積した後，熱処理を行う方法によるアSrAl2O4薄膜の剥離や亀裂の抑制の検討を行った。その結果，Al下地膜及びスパッタ膜堆積時の酸素分圧は，熱処理によりSrAl2O4薄膜を作製する場合の結晶性向上や配向性制御や剥離や亀裂の抑制，発光強度の増加に有効であった。 |
| （英） | In order to suppress that SrAl2O4 films on Al underlayer detach from substrate, SrAl2O4 thin films were attempted by post-annealing in vacuum of the films deposited on Al underlayer using reactive sputtering method. As a result, The Al film was effective to the crystallinity improvement, control of orientation and increase of the luminescence intensity of the SrAl2O4 film. |
|
| キーワード | （和） | SrAl2O4薄膜 / 長残光性蛍光体 / 真空熱処理 / 剥離 / / / / |
| （英） | SrAl2O4 thin film / long persistent phosphor / post-annealing in vacuum / detach / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 108, no. 269, CPM2008-82, pp. 41-46, 2008年10月. | |
| 資料番号 | CPM2008-82 | |
| 発行日 | 2008-10-23 (CPM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | CPM2008-82 エレソ技報アーカイブへのリンク：CPM2008-82 |
|
| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
| 開催期間 | 2008-10-30 - 2008-10-31 |
| 開催地（和） | 新潟大学 |
| 開催地（英） | Niigata Univ. |
| テーマ（和） | 薄膜プロセス・材料、一般 |
| テーマ（英） | Process of Thin Film formation and Materials, etc. |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | CPM |
| 会議コード | 2008-10-CPM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | Al下地膜上へのSrAl2O4薄膜の剥離抑制の検討 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Examination to suppress that SrAl2O4 films on Al underlayer detach from substrate |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | SrAl2O4薄膜 / SrAl2O4 thin film |
| キーワード(2)（和/英） | 長残光性蛍光体 / long persistent phosphor |
| キーワード(3)（和/英） | 真空熱処理 / post-annealing in vacuum |
| キーワード(4)（和/英） | 剥離 / detach |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 張 鋒 / Feng Zhang / チョウ ホウ |
| 第1著者 所属（和/英） | 新潟大学 (略称： 新潟大) Niigata University (略称： Niigata Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 纐纈 正和 / Masakazu Koketsu / コウケツ マサカズ |
| 第2著者 所属（和/英） | 新潟大学 (略称： 新潟大) Niigata University (略称： Niigata Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 清水 英彦 / Hidehiko Shimizu / シミズ ヒデヒコ |
| 第3著者 所属（和/英） | 新潟大学 (略称： 新潟大) Niigata University (略称： Niigata Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 岩野 春男 / Haruo Iwano / イワノ ハルオ |
| 第4著者 所属（和/英） | 新潟大学 (略称： 新潟大) Niigata University (略称： Niigata Univ.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 川上 貴浩 / Takahiro Kawakami / カワカミ タカヒロ |
| 第5著者 所属（和/英） | 新潟大学 (略称： 新潟大) Niigata University (略称： Niigata Univ.) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第6著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第7著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第8著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第8著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第9著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第9著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第10著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第10著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第11著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第11著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第12著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第12著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第13著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第13著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第14著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第14著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第15著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第15著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第16著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第16著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第17著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第17著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第18著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第18著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2008-10-31 09:00:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | CPM |
| 資料番号 | CPM2008-82 |
| 巻番号（vol） | vol.108 |
| 号番号（no） | no.269 |
| ページ範囲 | pp.41-46 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2008-10-23 (CPM) |
[研究会発表申込システムのトップページに戻る]