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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2008-10-31 11:45 反応性高速スパッタ法により作製したTiO2薄膜の構造と光触媒特性 ○星 陽一・石原太樹・境 哲也・雷 浩（東京工芸大）・清水英彦（新潟大）  CPM2008-88 エレソ技報アーカイブへのリンク：CPM2008-88 |
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| 抄録 | （和） | メタルモードで動作するTi原子供給用スパッタ源と、酸化物モードで動作する酸素ラジカル供給用のスパッタ源を組み合わせた反応性スパッタ法を用いて数十nm/min以上の高い堆積速度での成膜を実現している。この方法で作製されるTiO2薄膜の結晶構造は、基板へのTi原子と酸素分子供給量の比RO/ RTiに依存し、RO/ RTiを小さい値から増加させていくと、ルチルとアナターゼの混相膜からRO/ RTiの値が280以上でアナターゼ単相へと変化することが分かった。得られた膜は、紫外線照射により全て超親水性を示すものの、アナターゼ相の多く含まれる膜の方が良好な特性を示した。 |
| （英） | We reported that reactive sputtering by using two sputtering sources, one for the supply of Ti atoms and another for the supply of oxygen radicals was useful for the deposition of TiO2 films at high rate above 20nm/min. In this work, structure and photocatalytic properties of the TiO2 films deposited by the method were investigated. The film structure could be controlled by controlling the supply ratio RO/RTi of oxygen molecules and titanium atoms to the substrate, and single phase anatase film was obtained at the supply ratio above 280. The films deposited in this study showed super hydrophilicity by the irradiation of ultraviolet rays, although the hydrophilicity were improved by the increase of the anatase phase in the film. Keyword TiO2，Thin film, reactive sputter, high rate deposition, Photocatalytic film |
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| キーワード | （和） | TiO2 / 薄膜 / 反応性スパッタ / 高速堆積 / 光触媒 / / / |
| （英） | TiO2 / Thin film / reactive sputter / high rate deposition / photo-catalytic film / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 108, no. 269, CPM2008-88, pp. 75-79, 2008年10月. | |
| 資料番号 | CPM2008-88 | |
| 発行日 | 2008-10-23 (CPM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | CPM2008-88 エレソ技報アーカイブへのリンク：CPM2008-88 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
| 開催期間 | 2008-10-30 - 2008-10-31 |
| 開催地（和） | 新潟大学 |
| 開催地（英） | Niigata Univ. |
| テーマ（和） | 薄膜プロセス・材料、一般 |
| テーマ（英） | Process of Thin Film formation and Materials, etc. |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | CPM |
| 会議コード | 2008-10-CPM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 反応性高速スパッタ法により作製したTiO2薄膜の構造と光触媒特性 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Structure and photocatalytic properties of TiO2 films depopsited by high rate reactive sputtering. |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | TiO2 / TiO2 |
| キーワード(2)（和/英） | 薄膜 / Thin film |
| キーワード(3)（和/英） | 反応性スパッタ / reactive sputter |
| キーワード(4)（和/英） | 高速堆積 / high rate deposition |
| キーワード(5)（和/英） | 光触媒 / photo-catalytic film |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 星 陽一 / Yoichi Hoshi / ホシ ヨウイチ |
| 第1著者 所属（和/英） | 東京工芸大学 (略称： 東京工芸大) Tokyo Polytechnic University (略称： Tokyo Polytechnio Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 石原 太樹 / Taiki Ishihara / イシハラ タイキ |
| 第2著者 所属（和/英） | 東京工芸大学 (略称： 東京工芸大) Tokyo Polytechnic University (略称： Tokyo Polytechnio Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 境 哲也 / Tetsuya Sakai / サカイ テツヤ |
| 第3著者 所属（和/英） | 東京工芸大学 (略称： 東京工芸大) Tokyo Polytechnic University (略称： Tokyo Polytechnio Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 雷 浩 / Hao Lei / レイ ハオ |
| 第4著者 所属（和/英） | 東京工芸大学 (略称： 東京工芸大) Tokyo Polytechnic University (略称： Tokyo Polytechnio Univ.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 清水 英彦 / Hidehiko Shimizu / シミズ ヒデヒコ |
| 第5著者 所属（和/英） | 新潟大学 (略称： 新潟大) Niigata University (略称： Niigata Univ.) |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2008-10-31 11:45:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | CPM |
| 資料番号 | CPM2008-88 |
| 巻番号（vol） | vol.108 |
| 号番号（no） | no.269 |
| ページ範囲 | pp.75-79 |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2008-10-23 (CPM) |
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