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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2008-10-30 14:30 第三電極を有するマグネトロンスパッタ法によるAlドープZnO膜の低抵抗化 ○大島 穣・牧野雄一郎（長岡技科大）・片桐裕則・新保和夫（長岡高専）・黒木雄一郎・安井寛治・高田雅介・赤羽正志（長岡技科大）  CPM2008-78 エレソ技報アーカイブへのリンク：CPM2008-78 |
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| 抄録 | （和） | Alドープ酸化亜鉛 （AZO）の堆積において第三電極を有するrfマグネトロンスパッタ法を用いることで従来のrfマグネトロンスパッタ法よりも基板面内の均一性が改善することを見出してきた．AZO膜の更なる低抵抗化を目指して, 酸化亜鉛（ZnO）中で浅いドナー準位を形成する水素のドーピング効果を調べるためAZO堆積膜に水素プラズマアニールを行った．その結果，水素ドープによるキャリア密度の増加と共にホール移動度の向上に効果があった． |
| （英） | Improvement of the uniformity in the resistivity of Al doped ZnO (AZO) films has been obtained using a radio frequency (rf) magnetron sputtering with a third electrode. In order to further lower the resistivity of the AZO films, hydrogen doping by the hydrogen plasma annealing was investigated. As a result, the electron density increased. Hall mobility also increased perhaps due to the reduction of the adsorbed oxygen on the grain boundary by the hydrogen annealing. | |
| キーワード | （和） | AZO / rfマグネトロンスパッタ / 第三電極 / 水素プラズマアニール / / / / |
| （英） | AZO / rf magnetron sputtering / third electrode / hydrogen plasma annealing / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 108, no. 269, CPM2008-78, pp. 19-22, 2008年10月. | |
| 資料番号 | CPM2008-78 | |
| 発行日 | 2008-10-23 (CPM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | CPM2008-78 エレソ技報アーカイブへのリンク：CPM2008-78 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
| 開催期間 | 2008-10-30 - 2008-10-31 |
| 開催地（和） | 新潟大学 |
| 開催地（英） | Niigata Univ. |
| テーマ（和） | 薄膜プロセス・材料、一般 |
| テーマ（英） | Process of Thin Film formation and Materials, etc. |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | CPM |
| 会議コード | 2008-10-CPM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 第三電極を有するマグネトロンスパッタ法によるAlドープZnO膜の低抵抗化 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Lowering the resistivity of Al dope ZnO films deposited by a magnetron sputtering with a third electrode |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | AZO / AZO |
| キーワード(2)（和/英） | rfマグネトロンスパッタ / rf magnetron sputtering |
| キーワード(3)（和/英） | 第三電極 / third electrode |
| キーワード(4)（和/英） | 水素プラズマアニール / hydrogen plasma annealing |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 大島 穣 / Yutaka Oshima / オオシマ ユタカ |
| 第1著者 所属（和/英） | 長岡技術科学大学 (略称： 長岡技科大) Nagaoka University of Technology (略称： nagaoka Univ. of Tech.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 牧野 雄一郎 / Yuichiro Makino / マキノ ユウイチロウ |
| 第2著者 所属（和/英） | 長岡技術科学大学 (略称： 長岡技科大) Nagaoka University of Technology (略称： nagaoka Univ. of Tech.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 片桐 裕則 / Hironori Katagiri / カタギリ ヒロノリ |
| 第3著者 所属（和/英） | 長岡工業高等専門学校 (略称： 長岡高専) Nagaoka National College of Technology (略称： Nagaoka National College of Tech,) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 新保 和夫 / Kazuo Jinbo / ジンボ カズオ |
| 第4著者 所属（和/英） | 長岡工業高等専門学校 (略称： 長岡高専) Nagaoka National College of Technology (略称： Nagaoka National College of Tech,) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 黒木 雄一郎 / Yuichiro Kuroki / クロキ ユウイチロウ |
| 第5著者 所属（和/英） | 長岡技術科学大学 (略称： 長岡技科大) Nagaoka University of Technology (略称： nagaoka Univ. of Tech.) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 安井 寛治 / Kanji Yasui / ヤスイ カンジ |
| 第6著者 所属（和/英） | 長岡技術科学大学 (略称： 長岡技科大) Nagaoka University of Technology (略称： nagaoka Univ. of Tech.) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | 高田 雅介 / Masasuke Takata / タカタ マサスケ |
| 第7著者 所属（和/英） | 長岡技術科学大学 (略称： 長岡技科大) Nagaoka University of Technology (略称： nagaoka Univ. of Tech.) |
| 第8著者 氏名（和/英/ヨミ） | 赤羽 正志 / Tadashi Akahane / |
| 第8著者 所属（和/英） | 長岡技術科学大学 (略称： 長岡技科大) Nagaoka University of Technology (略称： nagaoka Univ. of Tech.) |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2008-10-30 14:30:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | CPM |
| 資料番号 | CPM2008-78 |
| 巻番号（vol） | vol.108 |
| 号番号（no） | no.269 |
| ページ範囲 | pp.19-22 |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2008-10-23 (CPM) |
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