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講演抄録/キーワード
講演名 2008-10-30 14:55
SBD法を用いたAZO薄膜作製における特性の検討
本間拓也佐藤 薫下村健晴邵 力捷清水英彦岩野春男新潟大)・星 陽一東京工芸大CPM2008-79 エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2008-79
抄録 (和) マグネトロンスパッタ(MS)法によりZnO 系透明導電膜を作製する場合の膜作製プロセスに起因する問題点を明らかにするために,MS 法及びスパッタビーム堆積(SBD)法によりAZO 薄膜を作製し,検討を行った。その結果,X 線回折測定結果により,MS 法及びSBD 法ともにエロージョン上付近よりターゲット中心軸側では結晶性が悪く,エロージョン上付近より外側では結晶性が良くなることが分かった。膜組成に関しては,作製方法,スパッタガス圧により,膜面内分布が大きく異なった。また,膜面内の抵抗率の変化は,膜内部の結晶性と関係があると考えられた。 
(英) In order to clarify a problem in sputtering deposition process when zinc oxide films of transparent conductive oxides were deposited by magnetron sputtering (MS) method, we examined properties of AZO films deposited by MS method and sputter-beam deposition (SBD) method. As a result, the films of inside from position of substrate above the erosion deposited by MS and SBD method had bad crystallinity whereas the films of outside from position of substrate above the erosion deposited by MS and SBD method had good crystallinity. The composition of the film in a inplane direction was different by a depositon method and sputtering gas pressure. It was thought that the change in the resistivity in the film was related to crystalline in the film.
キーワード (和) ZnO系透明導電膜 / 抵抗率 / スパッタビーム堆積法 / エロージョン / / / /  
(英) ZnO thin films / resistivity / Sputter-Beam Deposition Method / Erosion / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 108, no. 269, CPM2008-79, pp. 23-28, 2008年10月.
資料番号 CPM2008-79 
発行日 2008-10-23 (CPM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード CPM2008-79 エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2008-79

研究会情報
研究会 CPM  
開催期間 2008-10-30 - 2008-10-31 
開催地(和) 新潟大学 
開催地(英) Niigata Univ. 
テーマ(和) 薄膜プロセス・材料、一般 
テーマ(英) Process of Thin Film formation and Materials, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 CPM 
会議コード 2008-10-CPM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) SBD法を用いたAZO薄膜作製における特性の検討 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Characteristic of AZO Thin Films Deposited by SBD Method 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) ZnO系透明導電膜 / ZnO thin films  
キーワード(2)(和/英) 抵抗率 / resistivity  
キーワード(3)(和/英) スパッタビーム堆積法 / Sputter-Beam Deposition Method  
キーワード(4)(和/英) エロージョン / Erosion  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 本間 拓也 / Takuya Honma / ホンマ タクヤ
第1著者 所属(和/英) 新潟大学 (略称: 新潟大)
Niigata University (略称: Niigata Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 佐藤 薫 / Kaoru Satou / サトウ カオル
第2著者 所属(和/英) 新潟大学 (略称: 新潟大)
Niigata University (略称: Niigata Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 下村 健晴 / Takeharu Shimomura / シモムラ タケハル
第3著者 所属(和/英) 新潟大学 (略称: 新潟大)
Niigata University (略称: Niigata Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 邵 力捷 / Rijin Syou / ショウ リジン
第4著者 所属(和/英) 新潟大学 (略称: 新潟大)
Niigata University (略称: Niigata Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 清水 英彦 / Hidehiko Shimizu / シミズ ヒデヒコ
第5著者 所属(和/英) 新潟大学 (略称: 新潟大)
Niigata University (略称: Niigata Univ.)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 岩野 春男 / Haruo Iwano / イワノ ハルオ
第6著者 所属(和/英) 新潟大学 (略称: 新潟大)
Niigata University (略称: Niigata Univ.)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 星 陽一 / Yoichi Hoshi / ホシ ヨウイチ
第7著者 所属(和/英) 東京工芸大学 (略称: 東京工芸大)
Tokyo Polytechnio University (略称: Tokyo Polytechnio Univ.)
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講演者
発表日時 2008-10-30 14:55:00 
発表時間 25 
申込先研究会 CPM 
資料番号 IEICE-CPM2008-79 
巻番号(vol) IEICE-108 
号番号(no) no.269 
ページ範囲 pp.23-28 
ページ数 IEICE-6 
発行日 IEICE-CPM-2008-10-23 


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