| 電子情報通信学会 研究会発表申込システム 講演論文 詳細 |
技報閲覧サービス [ログイン] 技報アーカイブ |
| トップに戻る | 前のページに戻る | [Japanese] / [English] |
| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2008-10-09 13:30 ビットパターン媒体用1Tbit/in2級Co-Ptドットアレイの作製 ○近藤祐治・千葉 隆・有明 順・田口 香（秋田県産技総研センター）・鈴木基寛・河村直己（高輝度光科学研究センター）・Zulfakri Bin Mohamad・保坂純男（群馬大）・長谷川 崇・石尾俊二（秋田大）・本多直樹（東北工大）  MR2008-19 エレソ技報アーカイブへのリンク：MR2008-19 |
|
| 抄録 | （和） | ビットパターン媒体作製に関して，イオンエッチング時に生じる磁気的な加工ダメージを軽減するために，低エネルギーイオンによるエッチングプロセスの有効性を検討した．電子線描画と低エネルギーイオンエッチングを用いてCo-Pt磁性ドットを作製し，磁気特性評価を行った．実験結果とシミュレーション結果の比較から，飽和磁化や垂直磁気異方性の劣化はほとんどないことが明らかになり，1 Tbit/in2のBPMを実現する上で，低エネルギーイオンエッチングが有効であることが示された．さらに，30 nmピッチのCo-Pt磁性ドットアレイのSEM観察とMFM観察から，磁性ドットが規則配列し，磁気的に孤立していることを確認した． |
| （英） | We fabricated Co-Pt magnetic dot arrays using an electron beam writing and a low-energy ion etching in order to prevent from the deterioration of the magnetic properties. By comparing the results of X-ray magnetic circular dichroism measurement and micro magnetic simulation, it was found that the etching using low-energy ions cause little damage on not only the magnetization but also the anisotropy field. These results demonstrate the effectiveness of the etching using low-energy ions for realization of bit-patterned media with an areal density of 1 Tbit/in2. Furthermore, the magnetic isolation between the dots in the magnetic dot array with the dot pitch of 30 nm was confirmed by SEM and MFM observations. | |
| キーワード | （和） | ビットパターン媒体 / 面記録密度1 Tbit/in2 / 低エネルギーイオンエッチング / / / / / |
| （英） | Bit-patterned media / Areal density of 1 Tbit/in2 / Low-energy ion etching / / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 108, 2008年10月. | |
| 資料番号 | ||
| 発行日 | 2008-10-02 (MR) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | MR2008-19 エレソ技報アーカイブへのリンク：MR2008-19 |
|
| 研究会情報 | |
| 研究会 | MRIS ITE-MMS |
| 開催期間 | 2008-10-09 - 2008-10-10 |
| 開催地（和） | 秋田県産業技術総合センター 秋田県高度技術研究所 |
| 開催地（英） | AIT, Akita Research and Development Center |
| テーマ（和） | ヘッド・媒体および一般 |
| テーマ（英） | Head, media and general |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | MRIS |
| 会議コード | 2008-10-MR-MMS |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | ビットパターン媒体用1Tbit/in2級Co-Ptドットアレイの作製 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Fabrication of Co-Pt Dot Array with 1 Tbit/in2 for Bit Patterned Media |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | ビットパターン媒体 / Bit-patterned media |
| キーワード(2)（和/英） | 面記録密度1 Tbit/in2 / Areal density of 1 Tbit/in2 |
| キーワード(3)（和/英） | 低エネルギーイオンエッチング / Low-energy ion etching |
| キーワード(4)（和/英） | / |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 近藤 祐治 / Yuji Kondo / コンドウ ユウジ |
| 第1著者 所属（和/英） | 秋田県産業技術総合研究センター (略称： 秋田県産技総研センター) Akita Prefectural R&D Center (略称： Akita Pref. R&D Center) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 千葉 隆 / Takashi Chiba / チバ タカシ |
| 第2著者 所属（和/英） | 秋田県産業技術総合研究センター (略称： 秋田県産技総研センター) Akita Prefectural R&D Center (略称： Akita Pref. R&D Center) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 有明 順 / Jun Ariake / アリアケ ジュン |
| 第3著者 所属（和/英） | 秋田県産業技術総合研究センター (略称： 秋田県産技総研センター) Akita Prefectural R&D Center (略称： Akita Pref. R&D Center) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 田口 香 / Kaori Taguchi / タグチ カオリ |
| 第4著者 所属（和/英） | 秋田県産業技術総合研究センター (略称： 秋田県産技総研センター) Akita Prefectural R&D Center (略称： Akita Pref. R&D Center) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 鈴木 基寛 / Motohiro Suzuki / スズキ モトヒロ |
| 第5著者 所属（和/英） | 高輝度光科学研究センター (略称： 高輝度光科学研究センター) Japan Synchrotron Radiation Research Institute (略称： JASRI) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 河村 直己 / Naomi Kawamura / カワムラ ナオミ |
| 第6著者 所属（和/英） | 高輝度光科学研究センター (略称： 高輝度光科学研究センター) Japan Synchrotron Radiation Research Institute (略称： JASRI) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | Zulfakri Bin Mohamad / Zulfakri Bin Mohamad / |
| 第7著者 所属（和/英） | 群馬大学 (略称： 群馬大) Gunma University (略称： Gunma Univ.) |
| 第8著者 氏名（和/英/ヨミ） | 保坂 純男 / Sumio Hosaka / ホサカ スミオ |
| 第8著者 所属（和/英） | 群馬大学 (略称： 群馬大) Gunma University (略称： Gunma Univ.) |
| 第9著者 氏名（和/英/ヨミ） | 長谷川 崇 / Takashi Hasegawa / ハセガワ タカシ |
| 第9著者 所属（和/英） | 秋田大学 (略称： 秋田大) Akita University (略称： AKita Univ.) |
| 第10著者 氏名（和/英/ヨミ） | 石尾 俊二 / Shunji Ishio / イシオ シュンジ |
| 第10著者 所属（和/英） | 秋田大学 (略称： 秋田大) Akita University (略称： AKita Univ.) |
| 第11著者 氏名（和/英/ヨミ） | 本多 直樹 / Naoki Honda / ホンダ ナオキ |
| 第11著者 所属（和/英） | 東北工業大学 (略称： 東北工大) Tohoku Institute of Technology (略称： Tohoku Inst. of Technol.) |
| 第12著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第12著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第13著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第13著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第14著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第14著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第15著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第15著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第16著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第16著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第17著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第17著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第18著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第18著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2008-10-09 13:30:00 |
| 発表時間 | 40分 |
| 申込先研究会 | MRIS |
| 資料番号 | MR2008-19 |
| 巻番号（vol） | vol.108 |
| 号番号（no） | no.234 |
| ページ範囲 | pp.1-6 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2008-10-02 (MR) |
[研究会発表申込システムのトップページに戻る]