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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2008-07-25 11:35 紙の人工物メトリクスにおける分割照合の利用と耐クローン性 ○小林洋一・坂倉 翔・平良允俊・山越 学・松本 勉（横浜国大）  ISEC2008-39 |
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| 抄録 | （和） | 人工物の偽造対策技術で，偽造者に対する製造者の技術的優位性をセキュリティの根拠としないものとして，人工物メトリクス ― 人工物個体にランダムに生成された特徴からその人工物個体を認証する技術 ― がある．本稿は，紙に光を照射したときの透過光パターンをその紙の固有な特徴とする人工物メトリクスにおいて，精度向上のために有益であることが既に示されている分割照合方式が，耐クローン性の向上にも寄与することを示す． |
| （英） | It is desired to develop excellent counterfeit deterrence techniques for artifacts such as security documents, credentials, banknotes, payment cards, mobile terminals, etc. Artifact-metrics is a type of such techniques which are not based on the technological advantage of the manufacturers of artifacts but authenticate an individual artifact based on some randomly generated intrinsic unique features of the individual artifact. For a class of artifact-metrics with transmitted light patterns of papers, this article reports that, a segmented matching method developed for improving the individuality of such an artifact-metrics can also enhance the clone-resistance of the same artifact-metrics. | |
| キーワード | （和） | 人工物メトリクス / 紙の赤外透過光 / 耐クローン性 / 分割照合 / / / / |
| （英） | Artifact-Metrics / Transmitted Infrared Light of Paper / Clone Resistance / Segmented Matching / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 108, no. 162, ISEC2008-39, pp. 31-36, 2008年7月. | |
| 資料番号 | ISEC2008-39 | |
| 発行日 | 2008-07-18 (ISEC) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | ISEC2008-39 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | ISEC SITE IPSJ-CSEC |
| 開催期間 | 2008-07-24 - 2008-07-25 |
| 開催地（和） | 福岡システムLSI総合開発センター |
| 開催地（英） | Fukuoka Institute of System LSI Design Industry |
| テーマ（和） | 一般．情報通信システムセキュリティ時限研究専門委員会（ICSS）、情報処理学会情報セキュリティ心理学とトラスト研究グループ (IPSJ-SPT）協賛 |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | ISEC |
| 会議コード | 2008-07-ISEC-SITE-CSEC |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 紙の人工物メトリクスにおける分割照合の利用と耐クローン性 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Clone Resistance of Paper Artifact-Metrics with Segmented Matching |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 人工物メトリクス / Artifact-Metrics |
| キーワード(2)（和/英） | 紙の赤外透過光 / Transmitted Infrared Light of Paper |
| キーワード(3)（和/英） | 耐クローン性 / Clone Resistance |
| キーワード(4)（和/英） | 分割照合 / Segmented Matching |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 小林 洋一 / Yoichi Kobayashi / コバヤシ ヨウイチ |
| 第1著者 所属（和/英） | 横浜国立大学 (略称： 横浜国大) Yokohama National University (略称： YNU) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 坂倉 翔 / Sho Sakakura / サカクラ ショウ |
| 第2著者 所属（和/英） | 横浜国立大学 (略称： 横浜国大) Yokohama National University (略称： YNU) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 平良 允俊 / Mitsutoshi Taira / タイラ ミツトシ |
| 第3著者 所属（和/英） | 横浜国立大学 (略称： 横浜国大) Yokohama National University (略称： YNU) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 山越 学 / Manabu Yamakoshi / ヤマコシ マナブ |
| 第4著者 所属（和/英） | 横浜国立大学 (略称： 横浜国大) Yokohama National University (略称： YNU) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 松本 勉 / Tsutomu Matsumoto / マツモト ツトム |
| 第5著者 所属（和/英） | 横浜国立大学 (略称： 横浜国大) Yokohama National University (略称： YNU) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2008-07-25 11:35:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | ISEC |
| 資料番号 | ISEC2008-39 |
| 巻番号（vol） | vol.108 |
| 号番号（no） | no.162 |
| ページ範囲 | pp.31-36 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2008-07-18 (ISEC) |
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