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講演抄録/キーワード
講演名 2008-07-11 13:50
SiC MESFET Power Amplifier for 3.6 GHz-3.8 GHz WiMAX Application
Jae-Kwon KimKyunghwan KimJinwook BurnSogang Univ.ED2008-99 SDM2008-118 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2008-99 SDM2008-118
抄録 (和) Silicon-carbide (SiC) devices have received increased attention for high-power, high-speed, high temperature, and radiation-hard applications due to their superior properties, including wide band-gap, high saturated electron velocity, high breakdown electric field strength, and high thermal conductivity. The high breakdown field allows silicon carbide devices to operate at much higher voltages than silicon (Si) or gallium-arsenide (GaAs) devices and to have significant RF output power at high temperatures. The high thermal conductivity implies that silicon carbide has high-power handling capability. This paper describes the two-stage 5 W broadband power amplifiers using a commercially available silicon carbide Metal Semiconductor Field Effect Transistors (MESFETs), Cree CRF-24010F. The frequency range covers 3.6 GHz to 3.8 GHz for using WiMAX base-station application. The 2nd and 3rd order harmonic cancellation technique was introduced to obtain high linearity. A cascade topology was employed to increase isolation and stability throughout the bandwidth. At VDS = 24 V and IDS = 840 mA (two stage), 10 。セ 1 dB power gain, average 37 dBm (5 W) output power, 24 % power added efficiency have been achieved in the two-stage design. The results are being discussed and compared with simulations. 
(英) Silicon-carbide (SiC) devices have received increased attention for high-power, high-speed, high temperature, and radiation-hard applications due to their superior properties, including wide band-gap, high saturated electron velocity, high breakdown electric field strength, and high thermal conductivity. The high breakdown field allows silicon carbide devices to operate at much higher voltages than silicon (Si) or gallium-arsenide (GaAs) devices and to have significant RF output power at high temperatures. The high thermal conductivity implies that silicon carbide has high-power handling capability. This paper describes the two-stage 5 W broadband power amplifiers using a commercially available silicon carbide Metal Semiconductor Field Effect Transistors (MESFETs), Cree CRF-24010F. The frequency range covers 3.6 GHz to 3.8 GHz for using WiMAX base-station application. The 2nd and 3rd order harmonic cancellation technique was introduced to obtain high linearity. A cascade topology was employed to increase isolation and stability throughout the bandwidth. At VDS = 24 V and IDS = 840 mA (two stage), 10 。セ 1 dB power gain, average 37 dBm (5 W) output power, 24 % power added efficiency have been achieved in the two-stage design. The results are being discussed and compared with simulations.
キーワード (和) Silicon carbide MESFET / WiMAX / Power Amplifier / / / / /  
(英) Silicon carbide MESFET / WiMAX / Power Amplifier / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 108, no. 122, SDM2008-118, pp. 313-316, 2008年7月.
資料番号 SDM2008-118 
発行日 2008-07-02 (ED, SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード ED2008-99 SDM2008-118 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2008-99 SDM2008-118

研究会情報
研究会 SDM ED  
開催期間 2008-07-09 - 2008-07-11 
開催地(和) かでる2・7(札幌) 
開催地(英) Kaderu2・7 
テーマ(和) 第16回先端半導体デバイスの基礎と応用に関するアジア・太平洋ワークショップ(AWAD2008) 
テーマ(英) 2008 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SDM 
会議コード 2008-07-SDM-ED 
本文の言語 英語 
タイトル(和)  
サブタイトル(和)  
タイトル(英) SiC MESFET Power Amplifier for 3.6 GHz-3.8 GHz WiMAX Application 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) Silicon carbide MESFET / Silicon carbide MESFET  
キーワード(2)(和/英) WiMAX / WiMAX  
キーワード(3)(和/英) Power Amplifier / Power Amplifier  
キーワード(4)(和/英) /  
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キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) Jae-Kwon Kim / Jae-Kwon Kim /
第1著者 所属(和/英) Sogang University (略称: Sogang Univ.)
Sogang University (略称: Sogang Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) Kyunghwan Kim / Kyunghwan Kim /
第2著者 所属(和/英) Sogang University (略称: Sogang Univ.)
Sogang University (略称: Sogang Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) Jinwook Burn / Jinwook Burn /
第3著者 所属(和/英) Sogang University (略称: Sogang Univ.)
Sogang University (略称: Sogang Univ.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2008-07-11 13:50:00 
発表時間 15分 
申込先研究会 SDM 
資料番号 ED2008-99, SDM2008-118 
巻番号(vol) vol.108 
号番号(no) no.121(ED), no.122(SDM) 
ページ範囲 pp.313-316 
ページ数
発行日 2008-07-02 (ED, SDM) 


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