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講演抄録/キーワード
講演名 2008-06-27 10:55
LiNbO3基板に形成したシリカ超構造薄膜の光学特性
笠原 慧宇野武彦神奈川工科大EMD2008-12 CPM2008-31 OME2008-33 エレソ技報アーカイブへのリンク:EMD2008-12 CPM2008-31 OME2008-33
抄録 (和) シリカガラスにGe, Ti, Sn,(あるいはZr)をドープしたナノ薄膜層を周期的に積層した薄膜(シリカ超構造薄膜)において、紫外光照射により可視ルミネセンスが観測される。すでに石英基板に形成した超構造薄膜において、紫外光照射による405nm光の増大を確認している。今回SiあるいはLiNbO3基板上に超構造薄膜を光導波路として形成する検討を行ったので、その光学特性や光増幅の可能性について報告する。 
(英) Luminescence of visible light by UV irradiation was observed in artificial-lattice thin films of ion doped silica glass (silica superstructure thin films). The film was composed by periodic nanometer layers of germanium doped silica (Ge:SiO2), titanium doped silica (Ti:SiO2) and tin doped silica (Sn:SiO2).. In spite of thin film of a few microns, relatively bright luminescence of white light was observed. Light amplification at 405 nm was obtained in the superstructure films prepared on silica-glass and silicon substrate by UV irradiation.
キーワード (和) シリカ / ルミネセンス / Si / LiNbO3 / / / /  
(英) silica / luminescence / Si / LiNbO3 / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 108, no. 111, CPM2008-31, pp. 7-12, 2008年6月.
資料番号 CPM2008-31 
発行日 2008-06-20 (EMD, CPM, OME) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード EMD2008-12 CPM2008-31 OME2008-33 エレソ技報アーカイブへのリンク:EMD2008-12 CPM2008-31 OME2008-33

研究会情報
研究会 EMD CPM OME  
開催期間 2008-06-27 - 2008-06-27 
開催地(和) 機械振興会館 
開催地(英) Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. 
テーマ(和) 材料デバイスサマーミーティング 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 CPM 
会議コード 2008-06-EMD-CPM-OME 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) LiNbO3基板に形成したシリカ超構造薄膜の光学特性 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Optical Characteristics of Superstructure Silica Thin Films on LiNbO3 Substrates 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) シリカ / silica  
キーワード(2)(和/英) ルミネセンス / luminescence  
キーワード(3)(和/英) Si / Si  
キーワード(4)(和/英) LiNbO3 / LiNbO3  
キーワード(5)(和/英) /  
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キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 笠原 慧 / Kei Kasahara / カサハラ ケイ
第1著者 所属(和/英) 神奈川工科大学 (略称: 神奈川工科大)
Kanagawa Institute of Technology (略称: Kanagawa Inst. Tech.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 宇野 武彦 / Takehiko Uno / ウノ タケヒコ
第2著者 所属(和/英) 神奈川工科大学 (略称: 神奈川工科大)
Kanagawa Institute of Technology (略称: Kanagawa Inst. Tech.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2008-06-27 10:55:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 CPM 
資料番号 EMD2008-12, CPM2008-31, OME2008-33 
巻番号(vol) vol.108 
号番号(no) no.110(EMD), no.111(CPM), no.112(OME) 
ページ範囲 pp.7-12 
ページ数
発行日 2008-06-20 (EMD, CPM, OME) 


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