講演抄録/キーワード |
講演名 |
2008-06-27 10:55
LiNbO3基板に形成したシリカ超構造薄膜の光学特性 ○笠原 慧・宇野武彦(神奈川工科大) EMD2008-12 CPM2008-31 OME2008-33 エレソ技報アーカイブへのリンク:EMD2008-12 CPM2008-31 OME2008-33 |
抄録 |
(和) |
シリカガラスにGe, Ti, Sn,(あるいはZr)をドープしたナノ薄膜層を周期的に積層した薄膜(シリカ超構造薄膜)において、紫外光照射により可視ルミネセンスが観測される。すでに石英基板に形成した超構造薄膜において、紫外光照射による405nm光の増大を確認している。今回SiあるいはLiNbO3基板上に超構造薄膜を光導波路として形成する検討を行ったので、その光学特性や光増幅の可能性について報告する。 |
(英) |
Luminescence of visible light by UV irradiation was observed in artificial-lattice thin films of ion doped silica glass (silica superstructure thin films). The film was composed by periodic nanometer layers of germanium doped silica (Ge:SiO2), titanium doped silica (Ti:SiO2) and tin doped silica (Sn:SiO2).. In spite of thin film of a few microns, relatively bright luminescence of white light was observed. Light amplification at 405 nm was obtained in the superstructure films prepared on silica-glass and silicon substrate by UV irradiation. |
キーワード |
(和) |
シリカ / ルミネセンス / Si / LiNbO3 / / / / |
(英) |
silica / luminescence / Si / LiNbO3 / / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 108, no. 111, CPM2008-31, pp. 7-12, 2008年6月. |
資料番号 |
CPM2008-31 |
発行日 |
2008-06-20 (EMD, CPM, OME) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
PDFダウンロード |
EMD2008-12 CPM2008-31 OME2008-33 エレソ技報アーカイブへのリンク:EMD2008-12 CPM2008-31 OME2008-33 |
研究会情報 |
研究会 |
EMD CPM OME |
開催期間 |
2008-06-27 - 2008-06-27 |
開催地(和) |
機械振興会館 |
開催地(英) |
Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. |
テーマ(和) |
材料デバイスサマーミーティング |
テーマ(英) |
|
講演論文情報の詳細 |
申込み研究会 |
CPM |
会議コード |
2008-06-EMD-CPM-OME |
本文の言語 |
日本語 |
タイトル(和) |
LiNbO3基板に形成したシリカ超構造薄膜の光学特性 |
サブタイトル(和) |
|
タイトル(英) |
Optical Characteristics of Superstructure Silica Thin Films on LiNbO3 Substrates |
サブタイトル(英) |
|
キーワード(1)(和/英) |
シリカ / silica |
キーワード(2)(和/英) |
ルミネセンス / luminescence |
キーワード(3)(和/英) |
Si / Si |
キーワード(4)(和/英) |
LiNbO3 / LiNbO3 |
キーワード(5)(和/英) |
/ |
キーワード(6)(和/英) |
/ |
キーワード(7)(和/英) |
/ |
キーワード(8)(和/英) |
/ |
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
笠原 慧 / Kei Kasahara / カサハラ ケイ |
第1著者 所属(和/英) |
神奈川工科大学 (略称: 神奈川工科大)
Kanagawa Institute of Technology (略称: Kanagawa Inst. Tech.) |
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
宇野 武彦 / Takehiko Uno / ウノ タケヒコ |
第2著者 所属(和/英) |
神奈川工科大学 (略称: 神奈川工科大)
Kanagawa Institute of Technology (略称: Kanagawa Inst. Tech.) |
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第3著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第4著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第5著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第6著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第7著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第8著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第9著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第10著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第11著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第12著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第13著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第14著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第15著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第16著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第16著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第17著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第17著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第18著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第18著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第19著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第19著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第20著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第20著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
講演者 |
第1著者 |
発表日時 |
2008-06-27 10:55:00 |
発表時間 |
25分 |
申込先研究会 |
CPM |
資料番号 |
EMD2008-12, CPM2008-31, OME2008-33 |
巻番号(vol) |
vol.108 |
号番号(no) |
no.110(EMD), no.111(CPM), no.112(OME) |
ページ範囲 |
pp.7-12 |
ページ数 |
6 |
発行日 |
2008-06-20 (EMD, CPM, OME) |
|