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講演抄録/キーワード
講演名 2008-06-13 16:35
マランゴニ乾燥における残留液膜・液滴の乾燥挙動
宮本泰治鴨志田隼司山田 純芝浦工大ED2008-30 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2008-30
抄録 (和) ウェーハの大口径化に伴い,これまで、半導体製造の洗浄・乾燥技術において有効とされてきたマランゴニ乾燥についても,ウォーターマークやパーティクル等の残留物の発声が問題視されるようになってきた.本研究では,それらが低減するための指針を得るために,有機物ガスのウェーハ上に残留する液滴・液膜が,何故,有機物ガスが溶解する環境でありながら,乾燥,消失していくのかを明らかにするために,その考察,また実証実験として,CCDカメラによる乾燥時間の測定を行った.その結果,雰囲気中の水蒸気濃度,IPAガス濃度が残留液膜・液滴の乾燥時間に影響を及ぼし,それらが乾燥・消失するメカニズムに密接に関わっていることが示唆された. 
(英) To clarify the drying mechanism of remaining liquid film and droplet on a wafer during gas dissolution in Marangoni drying used for rinsing and drying process in semiconductor manufacturing, the drying time of remaining liquid film and droplet during gas dissolution has been investigated by using CCD camera. It is clarified that the drying time is dependent on water vapor concentration and organic gas concentration. This suggests that the drying mechanism is closely related to high concentration IPA as a result of evaporated of the water component of liquid film and droplet.
キーワード (和) マランゴニ乾燥 / 洗浄 / パーティクル / ウォーターマーク / / / /  
(英) Marangoni drying / Cleaning / Particle / Watermark / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 108, no. 87, ED2008-30, pp. 47-50, 2008年6月.
資料番号 ED2008-30 
発行日 2008-06-06 (ED) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード ED2008-30 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2008-30

研究会情報
研究会 ED  
開催期間 2008-06-13 - 2008-06-14 
開催地(和) 金沢大学 角間キャンパス 
開催地(英) Kanazawa University 
テーマ(和) 半導体のプロセス・デバイス(表面、界面、信頼性、一般) 
テーマ(英) Process and device technology od semiconductors (surface, interface, reliability, etc.) 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 ED 
会議コード 2008-06-ED 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) マランゴニ乾燥における残留液膜・液滴の乾燥挙動 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Drying behavior of remaining liquid film and droplet in Marangoni drying 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) マランゴニ乾燥 / Marangoni drying  
キーワード(2)(和/英) 洗浄 / Cleaning  
キーワード(3)(和/英) パーティクル / Particle  
キーワード(4)(和/英) ウォーターマーク / Watermark  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 宮本 泰治 / Yasuharu Miyamoto / ミヤモト ヤスハル
第1著者 所属(和/英) 芝浦工業大学大学院 (略称: 芝浦工大)
Graduate school of Shibaura institute of Technology (略称: Grad. school of Shibaura inst. of Tech.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 鴨志田 隼司 / Junji Kamoshida / カモシダ ジュンジ
第2著者 所属(和/英) 芝浦工業大学 (略称: 芝浦工大)
Shibaura Institute of Technology (略称: Shibaura Inst. of Tech.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 山田 純 / Jun Yamada / ヤマダ ジュン
第3著者 所属(和/英) 芝浦工業大学 (略称: 芝浦工大)
Shibaura Institute of Technology (略称: Shibaura Inst. of Tech.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2008-06-13 16:35:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 ED 
資料番号 ED2008-30 
巻番号(vol) vol.108 
号番号(no) no.87 
ページ範囲 pp.47-50 
ページ数
発行日 2008-06-06 (ED) 


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