講演抄録/キーワード |
講演名 |
2008-06-13 16:35
マランゴニ乾燥における残留液膜・液滴の乾燥挙動 ○宮本泰治・鴨志田隼司・山田 純(芝浦工大) ED2008-30 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2008-30 |
抄録 |
(和) |
ウェーハの大口径化に伴い,これまで、半導体製造の洗浄・乾燥技術において有効とされてきたマランゴニ乾燥についても,ウォーターマークやパーティクル等の残留物の発声が問題視されるようになってきた.本研究では,それらが低減するための指針を得るために,有機物ガスのウェーハ上に残留する液滴・液膜が,何故,有機物ガスが溶解する環境でありながら,乾燥,消失していくのかを明らかにするために,その考察,また実証実験として,CCDカメラによる乾燥時間の測定を行った.その結果,雰囲気中の水蒸気濃度,IPAガス濃度が残留液膜・液滴の乾燥時間に影響を及ぼし,それらが乾燥・消失するメカニズムに密接に関わっていることが示唆された. |
(英) |
To clarify the drying mechanism of remaining liquid film and droplet on a wafer during gas dissolution in Marangoni drying used for rinsing and drying process in semiconductor manufacturing, the drying time of remaining liquid film and droplet during gas dissolution has been investigated by using CCD camera. It is clarified that the drying time is dependent on water vapor concentration and organic gas concentration. This suggests that the drying mechanism is closely related to high concentration IPA as a result of evaporated of the water component of liquid film and droplet. |
キーワード |
(和) |
マランゴニ乾燥 / 洗浄 / パーティクル / ウォーターマーク / / / / |
(英) |
Marangoni drying / Cleaning / Particle / Watermark / / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 108, no. 87, ED2008-30, pp. 47-50, 2008年6月. |
資料番号 |
ED2008-30 |
発行日 |
2008-06-06 (ED) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
PDFダウンロード |
ED2008-30 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2008-30 |