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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2008-06-13 15:20 Wet Cleaning Processing of VLSI Devices by Functional Waters ○Masako Kodera・Yoshitaka Matsui・Naoto Miyashita（Toshiba）  ED2008-27 エレソ技報アーカイブへのリンク：ED2008-27 |
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| 抄録 | （和） | (まだ登録されていません) |
| （英） | We applied functional waters that was generated by an electrolytic cell of de-ionized water (DIW) or by gas-injecting method to LSI device processing such as post-cleaning of CMP (chemical mechanical planarization) or RIE (reactive ion etching). We confirmed that the functional waters could suppress not only leakage current between damascene Cu interconnect but also corrosion with interconnects. These phenomena are attributed to the alteration of open-circuit potentials of metals in functional waters and to effective removal of impurities. Moreover, we revealed that a corrosion current density in citric acid diluted with functional water was smaller than that diluted with DIW. Thus, we demonstrate functional waters have a high performance as rinsing solution. | |
| キーワード | （和） | / / / / / / / |
| （英） | Functional water / Cleaning / Metal / Potential / Corrosion / Electrochemistry / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 108, no. 87, ED2008-27, pp. 29-34, 2008年6月. | |
| 資料番号 | ED2008-27 | |
| 発行日 | 2008-06-06 (ED) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | ED2008-27 エレソ技報アーカイブへのリンク：ED2008-27 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | ED |
| 開催期間 | 2008-06-13 - 2008-06-14 |
| 開催地（和） | 金沢大学 角間キャンパス |
| 開催地（英） | Kanazawa University |
| テーマ（和） | 半導体のプロセス・デバイス（表面、界面、信頼性、一般） |
| テーマ（英） | Process and device technology od semiconductors (surface, interface, reliability, etc.) |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | ED |
| 会議コード | 2008-06-ED |
| 本文の言語 | 英語 |
| タイトル（和） | |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Wet Cleaning Processing of VLSI Devices by Functional Waters |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | / Functional water |
| キーワード(2)（和/英） | / Cleaning |
| キーワード(3)（和/英） | / Metal |
| キーワード(4)（和/英） | / Potential |
| キーワード(5)（和/英） | / Corrosion |
| キーワード(6)（和/英） | / Electrochemistry |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 小寺 雅子 / Masako Kodera / コデラ マサコ |
| 第1著者 所属（和/英） | (株)東芝 (略称： 東芝) Toshiba Corporation (略称： Toshiba) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 松井 嘉孝 / Yoshitaka Matsui / マツイ ヨシタカ |
| 第2著者 所属（和/英） | (株)東芝 (略称： 東芝) Toshiba Corporation (略称： Toshiba) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 宮下 直人 / Naoto Miyashita / ミヤシタ ナオト |
| 第3著者 所属（和/英） | (株)東芝 (略称： 東芝) Toshiba Corporation (略称： Toshiba) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2008-06-13 15:20:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | ED |
| 資料番号 | ED2008-27 |
| 巻番号（vol） | vol.108 |
| 号番号（no） | no.87 |
| ページ範囲 | pp.29-34 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2008-06-06 (ED) |
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