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講演抄録/キーワード
講演名 2008-06-10 14:10
金属ナノドットを有する不揮発性メモリの基本特性
裴 艶麗西嶋雅彦福島誉史田中 徹小柳光正東北大SDM2008-56 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2008-56
抄録 (和) (まだ登録されていません) 
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文献情報 信学技報, vol. 108, no. 80, SDM2008-56, pp. 83-88, 2008年6月.
資料番号 SDM2008-56 
発行日 2008-06-02 (SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
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研究会情報
研究会 SDM  
開催期間 2008-06-09 - 2008-06-10 
開催地(和) 東京大学(生産研 An棟) 
開催地(英) An401・402, Inst. Indus. Sci., The Univ. of Tokyo 
テーマ(和) ゲート絶縁膜、容量膜、機能膜およびメモリ技術 (応用物理学会、シリコンテクノロジ分科会、第101回研究集会「ゲートスタック構造の新展開:高移動度チャネル技術を中心に)」との合同開催) 
テーマ(英) Science and Sci. & Technol. for Thin Dielectrics for MIS Devices 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SDM 
会議コード 2008-06-SDM 
本文の言語 英語(日本語タイトルあり) 
タイトル(和) 金属ナノドットを有する不揮発性メモリの基本特性 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Characterization of Metal Nanodots Nonvolatile Memory 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 裴 艶麗 / Yanli Pei /
第1著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 西嶋 雅彦 / Masahiko Nishijima /
第2著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 福島 誉史 / Takafumi Fukushima /
第3著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 田中 徹 / Tetsu Tanaka /
第4著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 小柳 光正 / Mitsumasa Koyanagi /
第5著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2008-06-10 14:10:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 SDM 
資料番号 SDM2008-56 
巻番号(vol) vol.108 
号番号(no) no.80 
ページ範囲 pp.83-88 
ページ数
発行日 2008-06-02 (SDM) 


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