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講演抄録/キーワード
講演名 2008-05-29 14:00
プラズマ処理とナノ材料を用いるタンパク質パターンニング技術
高橋勇人金原達哉村田直哉小西利史六車仁志芝浦工大エレソ技報アーカイブへのリンク:OME2008-24
抄録 (和) ポストゲノム時代のツールとして不可欠なプロテインチップのコア技術であるタンパク質のマイクロパターンニング形成を行った。プラズマ処理により、タンパク質を吸着できる領域とできない領域の表面パターンを形成した。ヘキサメチルジシロキサンのプラズマ重合膜を形成(疎水性表面)したのち、シャドーマスクによって窒素プラズマ処理(親水性表面)を部分的に行った。その上にタンパク質(抗体)が選択的に吸着し、意図したパターンニングの形成を遂行できた。タンパク質の選択的な吸着については、水晶微量天秤での測定でも確認した。タンパク質の固定化の際に、フラーレンを使用した場合、タンパク質が疎水性部分に選択的に吸着し、フラーレンを使用しない固定化法と逆のパターンニングが形成された。この手法は、従来の手法(スポッティングなど)に比べて簡便で、ドライプロセスであることが特徴である。 
(英) Techniques for patterned modification of substrate surfaces are important for forming microarrays on protein chips. A hexamethyldisiloxane plasma-polymerized film (HMDS PPF) was deposited on a glass substrate and the resulting surface was partially modified by subsequent nitrogen plasma treatment with a patterned shadow mask. When surface adsorption of an antibody protein (F(ab’)2 fragment of anti-human immunoglobulin G) was visualized by fluorescence microscopy, distinct 80×80 m2 square spots were observed, surrounded by a non-fluorescent 80 m-wide grid. This pattern could be attributed to proteins selectively adsorbed onto the nitrogen plasma-treated regions but not onto the surface of pristine HMDS PPF. This result was supported by quartz crystal microbalance. The pattering that the antibody immobilized with fullerene and -cyclodextrin showed the reversible pattering compared with the former process. This provided a simple fabrication method of protein patterning.
キーワード (和) プロテインチップ / パターンニング / プラズマ重合 / / / / /  
(英) Protein chip / Patterning / Plasma polymerization / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 108, no. 59, OME2008-24, pp. 19-22, 2008年5月.
資料番号 OME2008-24 
発行日 2008-05-22 (OME) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)

研究会情報
研究会 OME  
開催期間 2008-05-29 - 2008-05-29 
開催地(和) 電気倶楽部第3会議室 
開催地(英) Denki-Club, Meeting room 3 
テーマ(和) 有機材料・一般 
テーマ(英) Electronic organic materials 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 OME 
会議コード 2008-05-OME 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) プラズマ処理とナノ材料を用いるタンパク質パターンニング技術 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Protein Patterning Technique with Nanomaterials and Plasma Process 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) プロテインチップ / Protein chip  
キーワード(2)(和/英) パターンニング / Patterning  
キーワード(3)(和/英) プラズマ重合 / Plasma polymerization  
キーワード(4)(和/英) /  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 高橋 勇人 / Hayato Takahashi / タカハシ ハヤト
第1著者 所属(和/英) 芝浦工業大学 (略称: 芝浦工大)
Shibaura Institute of Technology (略称: Shibaura Tech.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 金原 達哉 / Tatsuya Kinbara / キンバラ タツヤ
第2著者 所属(和/英) 芝浦工業大学 (略称: 芝浦工大)
Shibaura Institute of Technology (略称: Shibaura Tech.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 村田 直哉 / Naoya Murata / ムラタ ナオヤ
第3著者 所属(和/英) 芝浦工業大学 (略称: 芝浦工大)
Shibaura Institute of Technology (略称: Shibaura Tech.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 小西 利史 / Toshifumi Konishi / コニシ トシフミ
第4著者 所属(和/英) 芝浦工業大学 (略称: 芝浦工大)
Shibaura Institute of Technology (略称: Shibaura Tech.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 六車 仁志 / Hitoshi Muguruma / ムグルマ ヒトシ
第5著者 所属(和/英) 芝浦工業大学 (略称: 芝浦工大)
Shibaura Institute of Technology (略称: Shibaura Tech.)
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講演者
発表日時 2008-05-29 14:00:00 
発表時間 20 
申込先研究会 OME 
資料番号 IEICE-OME2008-24 
巻番号(vol) IEICE-108 
号番号(no) no.59 
ページ範囲 pp.19-22 
ページ数 IEICE-4 
発行日 IEICE-OME-2008-05-22 


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